二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293604716 待售

ID: 293604716
CVD System DLH (2) Chambers.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是专门为半导体生产而设计的物理气相沉积(PVD)反应器。它通常用于关键应用,包括沉积具有出色均匀性的薄膜,高长宽比(AR)硬掩模喷墨图样,纳米尺度特征的高密度镀层,以及电阻记忆形成。它具有结构和微调复杂层堆栈的能力,在材料之间具有很好的间隙填充能力,并具有跨组合物的受控化学计量。AMAT P-5000具有先进的控制技术,为大批量生产运行提供一致的沉积结果。它是一种多用途设计,具有集成的集中过程控制(CPC)设备和强大的三轴闭环系统。CPC允许用户除了控制溅射沉积速率之外,还可以优化工艺参数。其气流模型为达到理想的沉积特性提供了标准的过程控制和可调节的流量。其热过程控制单元可对每一层的放置、温度和均匀性进行精确控制。APPLIED MATERIALS P 5000使用全轴溅射技术,比传统的平面溅射技术更有效率,提供更一致的结果。共有四个阴极、两个磁控管和两个可旋转的柱。这使过程工程师能够跨多层优化过程控制,从而使最终结果具有高度的过程一致性和可重复性。该机还采用了一种"溷合膜"沉积方法,其结果是具有低线宽偏置和平滑侧壁的完全均匀的层。应用材料P5000可以处理50多种独特的高科技材料,包括合金、陶瓷、聚合物和功能性氧化物。它与多种基材兼容,从标准的CMOS到复合半导体。AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000还有一个集成的RTP和C4工艺工具,使用户能够实现位置精度和高表面轮廓,从而获得最高质量的结果。总体而言,AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000是为高性能半导体生产而设计的可靠且先进的沉积工具。其直观的过程控制,结合其精确的沉积技术,产生了高质量的结果,具有极好的均匀性和可重复性。P 5000为沉积过程提供了高效、经济高效的解决方桉。
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