二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293609326 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000反应器是一种专门为固体材料在各种基材上的薄膜沉积而设计的化学气相沉积（CVD）设备。它用于半导体制造工艺中，以提供保形且均匀沉积的氮化硅或氧化硅等薄膜。AMAT P-5000反应器具有良好的均匀性和良好的压力控制能力.这使得它适合多个过程和层层的沉积。应用材料P 5000反应堆由三个主要部件组成：CVD反应堆、真空系统和控制系统。CVD反应堆装有静电碎裂喷嘴，以确保前体材料的均匀喷雾。真空装置包括一个涡轮分子泵、一个背衬泵以及进气入口和出口。反应器的压力由两个质量流量控制器控制，两个质量流量控制器连接到进气入口和出口管。控制机由带触摸屏面板的PLC控制器、可编程逻辑控制器（PLC）和进气流量控制器组成。AMAT/APPLICED MATERIALS P 5000 CVD反应器在半导体工业中广泛应用于氮化硅薄膜沉积、低k介电层、氮化钛、氮化变更、钨等多种应用。P-5000具有极好的沉积均匀性，这对于保形薄膜层的沉积特别有利，例如金属化层用于电气互连和封盖层用于集成电路。它还提供了广泛的工艺温度（高达1100 °C），高通量，可用于先进的工艺，如原子层沉积（ALD）和热稳定材料的化学气相渗透（CVI）沉积。此外,该工具易于维护,并提供各种工艺参数,如压力、温度和流速,这些参数可以调整以优化工艺结果。总体而言，应用材料P-5000 CVD反应器是一种先进的资产，能够实现高通量和沉积均匀、均匀的薄膜。它是一个可靠耐用的反应堆，适用于广泛的半导体应用。