二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293610276 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一种高科技等离子体反应器，设计用于高级半导体制造的精密蚀刻和沉积工艺。反应堆采用处理器控制的垂直腔室几何设计，能够在严密控制的气体环境中提供一系列工艺参数。利用450毫米宽的低压等离子体腔室，AMAT P-5000通过识别晶圆特性，如平坦度和热膨胀速率，可以实现极其精确的蚀刻和沉积步骤。此外，工艺压力控制系统和自适应工艺控制助推器以惊人的精度帮助实现了所需的化学反应和沉积速率。应用材料P 5000具有在原位沉积阶段控制A-Nigrogen等离子体的优点。这座多任务反应堆还能够引入具有高反应性和优异选择性的掺杂剂，使二极管、存储器和开关的器件参数得以精确调整。Applied Material AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000的超高速模型可实现高达每分钟20 nm的沉积速率。这有助于快速重新连接先前被分解或漂移的原子。它还允许同时处理几个层，从而减少了元素集成所需的步骤和时间。此外，P 5000集成了基于温度的实时过程控制系统。这有助于减少所需的标线数量，同时确保蚀刻和沉积过程的准确性。此外,增强的P/N闭包功能有助于避免短路,最大限度地提高模具的产量。此外,"自动端点测量"功能还可以有效地监视和检查各种设置中的设备处理步骤。总体而言，APPLIED MATERIALS P5000是一种功能强大且可高度配置的反应堆，可用于各种半导体蚀刻和沉积过程。它能够提供精确的工艺参数和自动的温度辅助工艺控制,从而确保一致性和高产率,并最大限度地减少标线。