二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293610620 待售
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ID: 293610620
晶圆大小: 8"
优质的: 1995
CVD System, 8"
VME Type: Hard disk
21-Slots controller
SBC Board type: V21 Synergy
VGA Video board
Robot type: Phase-III
8-Slots storage elevator
No WPS sensor
Standard slit valve
Heat exchanger
Floppy Disk Drive (FDD): 3.5"
Standard cassette handler
I/O Wafer sensor
No Load lock slow vent
Load lock purge
Exhaust line type: Top, standard
Gas panel: (28) Gas lines
Chamber type:
Chamber A: Universal CVD
Chamber B: Standard CVD
Chamber A, B:
Process: PECVD Oxide
Process kit: Susceptor
MKS Manometer, 100 Torr
Clean method: RF Clean
Throttle valve: Direct drive dual spring W/C plug
Gas box MFC: AERA
Lamp driver
ENI OEM-12B RF Generator
RF Match: Phase-IV
1995 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是专门为半导体工艺应用而设计的高级反应堆室。这个反应堆室提供了广泛的特点，使它能够在各种应用中提供卓越的性能和控制。反应器室由优质不锈钢制成，经过氮化物处理，具有防腐性能。该腔室配置为AMAT P-5000晶片加工，半径30.7cm，腔宽45.7cm，腔高39cm。APPLICED MATERIALS P 5000反应堆腔室利用完全自动化的过程控制系统，可以设置以允许广泛的用户定义参数，如腔室压力、温度、基板温度、热循环和气流。流程控制系统还包括一个嵌入式数据记录器,该记录器存储流程信息,可以检索该记录器以分析趋势并确定特定应用程序的最佳参数。这样可以提高处理结果的可靠性和准确性。反应堆室还包括一个有两个独立气体歧管和调节器的气体面板。气体面板控制每个歧管提供的气体以及气体的压力和流量。这使用户能够调整工艺条件以完成所需的结果。AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000反应堆室设计为安装在没有环境碎片、灰尘和其他颗粒的工作环境中。腔室配有静态放电电缆，有助于最大限度地减少腔内的静电积聚。该室配有自动氮气净化系统和进气口。进气口的设计允许将加热的氮气和其他加工气体送入腔室。这有助于最大限度地提高流程效率和一致性。另外，P5000反应堆室设计方便，维护方便。该腔室在腔室内包括可拆卸的顶部和底部密封件，便于拆卸，以便定期清洗和维修腔室。这样可以减少停机时间,并允许用户继续处理而不会中断。AMAT P5000反应器室是一种先进可靠的半导体加工应用工具.其特点使其适合多种应用，维护简单高效。通过适当的运行和维护，这种反应堆腔室有助于确保高质量的结果和可靠的长期运行。
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