二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293620899 待售

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AMAT / APPLIED MATERIALS P5000
已售出
ID: 293620899
System Process: Nitride.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一种高温化学气相沉积(HTCVD)反应器,用于将薄膜、涂层和电介质沉积在长达6英寸的基板上。它配备了双冷壁石英管设计,允许材料同时沉积在基板两侧。双管设计与优化的冷却区布局相结合,旨在最大限度地减少沉积高度均匀的薄膜层时颗粒漂移的影响。AMAT P-5000能够在高达1200C或更高的温度下运行,从而实现了多种材料的沉积,包括二氧化硅、氮化硅、氮化全新和各种其他金属氮化物和氧化物。APPLIED MATERIALS P 5000的加热设备采用陶瓷基炉膛,设计用于快速启动和均匀的温度,在基板上的温度梯度最小。P5000配有板载光谱系统,可现场监测和控制薄膜沉积。此外,它还有一个动态压力控制单元,通过保持可重复的基板温度、气流和浴液压力来确保过程的重复性。AMAT/APPLICED MATERIALS P-5000还配备了多个阀门,可以切换工艺气体,控制硅烷产生的材料,确保膜均匀沉积在基板上。气源通过屏蔽管道系统输送到P-5000,最大限度地减少污染的可能性。APPLICED MATERIALS P5000还有一个内置的自动粒子过滤机,用于净化过程中的气体,确保最优质的薄膜。AMAT/APPLICED MATERIALS P 5000旨在轻松集成到各种沉积系统中,从而实现更简单、更经济高效的制造过程。此外,它还易于维修和维护,进一步降低了拥有成本。通过整合HTDV技术的最新发展,APPLIED MATERIALS P-5000非常适合生产高质量、高通量的薄膜、涂层和电介质,适用于广泛的应用。它是大学、研究和先进制造机构以及汽车和医疗器械制造商的理想选择。
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