二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293620909 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一种先进的等离子体反应器，旨在提高用于微电子和光电器件等应用的复合半导体材料的生产和纯度。与传统的低温沉积技术相比,AMAT P-5000反应器利用独特的高压感应耦合等离子体（ICP）源,能够生产性能更好、产量更高、性能更好的高质量半导体材料。APPLIED MATERIALS P 5000反应堆配备了独特的专利设计，与传统的ICP源相比提供了优越的工艺控制和一致性。等离子体源利用先进的电容器技术，为高密度、控制俯仰角的先进二维等离子体羽流打基础。这提供了更广泛的各种理想的工艺参数，并产生更高质量的材料。APPLIED MATERIALS P5000反应堆使用沉积工艺，能够生成高质量、超纯化合物半导体材料，如砷化铵（GaAs）、氮化氙（GaN）、磷化​​的氙的、InGaP等III-V材料。该反应堆使功能层能够在冷却至低至-20摄氏度（°C）的基板上进行气相沉积，从而形成高质量的电接触和灰度图样。这种先进的ICP源不需要添加蚀刻或清洁气体来成功处理，而是依靠高沉积功耗来进行均匀的薄膜沉积。这一功能还减少了蚀刻和清洁过程造成的废物和污染。AMAT P 5000反应堆配有独特的专利电源溶液，可调节沉积过程中的能量输入，提供统一且可重复的沉积过程。系统对变化过程参数的敏感性使用户能够快速调整，快速优化沉积过程。AMAT/APPLICED MATERIALS P 5000反应堆的多功能性和工艺参数范围使其能够用于各种应用，如制造LED、集成电路和光学设备。P 5000反应堆以坚固的底盘建造，以达到最大可靠性。它有全面的日常操作和维护服务选项作为后盾。综上所述，AMAT P5000是用于制造复合半导体材料的先进等离子体反应堆，用于微电子和光电子等应用。它具有独特的高压ICP源，能够在冷却的基板上沉积功能层的气相，以及均匀和可重复的涂层。与传统的低温沉积技术相比,AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000是实现高质量、超纯、性能更好、产量更高、性能更好的材料的理想选择。