二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293637028 待售
网址复制成功！
单击可缩放
ID: 293637028
晶圆大小: 8"
优质的: 2013
Etcher, 8"
Orient MxP (Optima type)
(3) Poly chambers
Does not include pump or chiller
2013 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一种全自动、微型制造、单晶圆先进的工艺控制反应堆设备，用于半导体工业的蚀刻和沉积应用。AMAT P-5000结合了精确度、可重复性和高产过程控制，能够提供卓越的吞吐量。它能够控制蚀刻、氧化、硝化碳化和金属沉积参数，以适应广泛的蚀刻和沉积要求。APPLICED MATERIALS P 5000利用物理-机械和化学过程的结合，实现了薄膜的化学气相蚀刻（CVD）和化学气相沉积（CVD）。该系统的核心在于它能够精确控制腔室内运行的温度、压力和化学组合性，同时进行多种蚀刻/沉积过程。该单元包括具有多气体溷合能力的化学气体输送机、腔室压力输送工具以及物理机械腔室清洁资产。该模型还包括一个运输和网页处理设备，能够支持薄和厚网页产品。P 5000利用射频等离子体电源将光子泵入腔内，提高蚀刻和沉积速率。通过在电源接地系统中使用热电偶来调节加热元件的功率输出和反馈控制，使腔室温度保持恒定。然后使用质量流控制器调节蚀刻化学物质进入腔室的流量，然后引入CVD气体，导致薄膜沉积。P-5000的反应室也被用来蚀刻过氧化氢、氢氟酸和硝酸等化学物质。使用热电偶功率控制装置和带有嵌入式软件的车载计算机来保持腔室温度，以帮助控制和监测工艺条件。此外，AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000使用光发射光谱仪帮助探测和测量蚀刻和沉积过程中室内的气态物质。总体而言，P5000是一个非常坚固可靠的过程控制反应器机器，用于薄膜蚀刻/沉积和其他半导体过程。该工具具有卓越的吞吐量、精确度和可重复性,平均产量为75-90%,过程结果一致。通过使用AMAT/APPLICED MATERIALS P 5000,半导体工艺开发人员和工程师可以获得高性能结果,同时减少制造周期的时间和成本,从而获得更可靠的产品。
还没有评论