二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293760279 待售
网址复制成功！
单击可缩放
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000反应堆是为外延晶圆加工而设计的高性能气相化学沉积系统。该反应堆的设计旨在提供对温度、压力、时间、气体流量和速率的精确控制，从而实现卓越的性能、重复性和可靠性。AMAT P-5000可用于在Si、Ge、Si/Ge和Si/SiO2/Ge/SiO2等多种基材上生长超细金属和金属氧化膜。利用超高真空（UHV）技术，为非平衡汽化沉积创造高度清洁稳定的环境。应用材料P 5000具有良好的沉积膜均匀性和可控性,可产生一致、可重复的结果.使用计算机界面精确调整增长参数，而内置控制器和用户友好的编程语言则确保了操作简单高效。AMAT P 5000还可以配备一系列动态传感器，能够实时监测生长过程，并对沉积膜进行现场表征。P5000还能够采用传统的沉积技术，如溅射和化学气相沉积。凭借其灵活性,AMAT/APPLICED MATERIALS P 5000允许单个晶片基板上的各种材料系统在单个运行中轻松增长。此外，APPLIED MATERIALS P5000由于其设计效率较传统反应堆小，耗能较少。总而言之，AMAT P5000反应器是一种先进的反应器，可精确控制温度、压力和气体流动，并可实现金属和金属氧化物薄膜的沉积速率。它体积小巧，比传统反应堆消耗的能量少，并且在单个晶片上处理各种材料时提供了灵活性。此外，它内置的控制器和用户友好的编程语言使系统的运行无忧。
还没有评论