二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9027761 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS P5000
ID: 9027761
晶圆大小: 6"
优质的: 1991
CVD SiN system, 8" (4) Chambers.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是为生产半导体晶片而设计的先进工艺反应器。其特点包括加热外壳、变速气体输送设备和温度控制。反应堆的外墙由无毒合金制成,其设计目的是抵抗腐蚀,保持反应堆内部稳定。采用变速气体输送系统优化不同气体向基体的流动。这样可以提高沉积速率,从而产生所需的薄膜类型。AMAT P-5000设计用于在一定温度和压力范围内运行。它有一个可调的热循环器,可根据基板的热要求进行调整。热循环器还为基板提供温度控制元件。APPLICED MATERIALS P 5000通过其快速响应脉冲热控制器提供更均匀的沉积速率和改进的温度控制。这项技术有助于确保一致和可重复的结果。该装置还包括一个压力监测器,用于监测沉积过程中的基板温度。AMAT/APPLICED MATERIALS P 5000还具有一个工艺控制机器,该机器设计用于监测沉积过程中基板的均匀性。这样就可以根据特定应用程序定制流程。除此之外,AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000还采用闭环控制技术,比传统方法提高了精度。此高级过程控制工具可提高产品质量并优化产量。P5000的整体尺寸和重量相对较小和轻巧,非常适合广泛的制造和研究应用。对于需要能产生可重复可靠结果的先进工艺反应堆的半导体和光电制造商来说,这是一个理想的选择。
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