二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9037975 待售
网址复制成功！
单击可缩放
ID: 9037975
晶圆大小: 8"
优质的: 1997
PECVD System, 8"
Process: SA-BPSG
TEOS with (3) CVD Chambers
1997 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一种化学气相沉积（CVD）平台，提供卓越的自动化和过程控制能力。AMAT P-5000包括允许快速、可重复和稳定高温沉积的自动化过程控制和腔室控制子系统。这项功能增强了对表面特性、薄膜厚度和均匀性的控制,并提高了工艺产量。APPLICED MATERIALS P 5000可用于金属、金属合金和金属氧化物层，也可用于碳、氧化硅或氮化硅的沉积等屏障层应用。反应堆的高温范围可达1200 °C。该系统同时支持LPCVD（低压、化学气相沉积）和PECVD（等离子增强CVD）。反应堆具有自动化过程控制器、两级涡轮分子泵、多个气流控制器和质量流控制器。APPLICED MATERIALS P-5000允许对沉积协议进行精确控制,并允许进行高级基材处理,如蚀刻、退火、氧化物沉积和金属提升。它还包括各种先进的抛光技术，允许优越的表面光洁度和增强的地形。该系统可以轻松地与现有的生产环境集成,从而提供了既有时间又有成本效益的高效解决方桉。AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000是一个坚固可靠的系统，能够生产优质的薄膜和基材。其自动化能力和过程控制功能已被证明在制造高精度光学、微电子和其他元件方面是无价的。低维护和易用性使其成为研发实验室和制造环境中的理想工具。
还没有评论