二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9040992 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是下一代高性能等离子体反应器,在高级半导体应用中为卓越的工艺性能和可靠性而设计。这类反应器，又称高密度等离子体（HDP）反应器，利用磁增强等离子体来提高沉积速率、薄膜层均匀性、介电和金属沉积特性。AMAT P-5000 HDP反应堆具有许多关键特性，使其成为半导体工业设备和材料创新的宝贵资产，包括：多炉设计：这一专利设计采用多炉式结构，以确保晶圆恒定和均匀加热。这一特性对于材料在晶片上的重复和准确沉积至关重要。低温操作：APPLIED MATERIALS P 5000具有低温操作范围，允许更快的沉积和高材料兼容性与标准和低k器件的制造。超精密温度控制：为进一步提高P-5000温度精度，反应堆采用超精密温度控制系统，确保材料的精确重复沉积。多重基板兼容性：该反应堆设计为与各种基板材料高度兼容，允许介电和含金属材料的优越沉积。高密度等离子体：P 5000 HDP反应器利用磁增强等离子体提高沉积速率、薄膜层均匀性和介电/金属沉积特性。远程诊断：此反应堆提供远程诊断功能,允许对机器进行实时、现场故障排除和维护。应用材料P-5000 HDP反应堆是一种强大的下一代反应堆，能够在半导体工业中进行卓越的沉积和材料创新。磁增强等离子体的加入提高了沉积速率、均匀性和材料兼容性，使得AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000非常适合在各种基材上对材料进行精确和可重复的加工。AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 HDP反应堆具有低温运行、精确的温度控制和远程诊断功能,是一个强大的反应堆,能够提供卓越的性能和可靠性。