二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9056702 待售
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已售出
ID: 9056702
优质的: 1999
PECVD System, 8"
Mark II P5000 mainframe
(4) Chambers
15 slot storage elevator
8” Cassette Handler
Bolt down load luck lid with purge
Phase III robot
Remote Rack with (2) ENI OEM 12B 13.56Mhz generators
Steelhead Heat Exchanger
Thru the wall interface with (2) monitors: (1) TTW, (1) stand alone
PLIS Cabinet
PLIS Minicontroller
DPS generator rack with ENI DPG-10 Generator and DPA Interlock board
Chamber A:
Universal PECVD chamber
Cluster Throttle valve
Gold Style Lamp module
Phase IV RF match
Dual manometers with 100/1000 Torr manometers
Unit 1660 MF calibrated to customer spec
STEC LF-410 LFM’s and 2410 injectors calibrated to customer spec
Chamber B:
Standard PECVD chamber
Cluster Throttle Valve
Gold Style Lamp Module
Phase IV RF Match
Dual manometers with 10/1000 Torr manometers
1660 MFC’s calibrated to customer spec
1999 vintage.
AMAT/APPLICED MATERIALS P5000反应堆是专门为半导体、薄膜半导体和磁性材料的沉积、蚀刻和其他相关薄膜加工而设计的高性能加工设备。此工具既用于批量生产,也用于研发应用。AMAT P-5000反应器具有激光和光学过程模块以及基于CPU/DSP的控制器。激光和光学过程模块是一个6轴运动系统，一个线性真空室安装在一个精确的线性轨道上，允许精确和可重复的运动。激光和光学处理模块由高分辨率激光单元、对焦相机以及光纤和激光通信组成。基于CPU/DSP的控制器可对气体和原料、射频和直流偏置、晶圆温度、时间、能量和加速度等参数进行可编程控制。APPLICED MATERIALS P 5000反应堆还设有对流机，能够在大范围的加工条件下提供多种温度。它配备了几种气体分配系统，如高速率质量流控制器和低速率质量流控制器。气体分配工具有助于控制反应堆中反应物种类的时空分布。射频（RF）和直流电（DC）偏置也可以在处理过程中应用，允许反应中产生活性物种。AMAT/APPLICED MATERIALS P 5000反应堆还具有多种工艺增强功能。模型中包括了一种高真空排气资产，可以快速、高效地疏散反应副产物。此外，该设备还设计用于快速采集晶圆样品，从而能够不断改进和改进工艺。AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000反应器是在半导体、薄膜半导体和磁性材料的沉积、蚀刻和其他相关薄膜加工方面实现卓越性能的有效工具。
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