二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9058265 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS P5000
ID: 9058265
晶圆大小: 6"
优质的: 1995
CVD System, 6" Process: TEOS 1995 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是为满足现代半导体生产需要而专门设计的高性能、高容量等离子蚀刻设备。AMAT P-5000利用先进的光学和射频技术,通过控制蚀刻轮廓提供高水平的阵列精度和均匀性。该系统每小时可蚀刻多达20个晶片,特征大小分辨率为15nm。APPLIED MATERIALS P 5000具有集成的气体输送装置,能够完全控制等离子体过程,包括自动气体管理和端点确定。这样可以提高蚀刻化学的灵活性和控制,从而提高工艺可靠性和可重复性。P-5000配备了先进的等离子体控制自动化套件,对蚀刻工艺进行了详细的监测和分析。这允许优化过程以最大化吞吐量。它还提供了自动检查和调整过程参数的内置自我诊断功能。APPLIED MATERIALS P-5000还具有双腔室设计,可实现尽可能高的吞吐量,并提高工艺稳定性。腔室的设计目的是为晶片提供最佳冷却,降低介电和等离子体损坏的风险。双腔室还允许最大限度地利用气体,并确保整个晶片的均匀性.P5000还配备了先进的光学诊断机,能够进行即时OPC处理。这样可以确保精确且可重复的蚀刻图样处理结果。最后,AMAT P5000与设置站、清理站和现场计量工具集成在一起。这样可以确保晶片的最高吞吐量和均匀性。安装站可确保晶片方向精确,并提供易于使用的触摸屏界面,用于快速加载和卸载晶片。现场计量资产对晶片进行数据精度扫描,为过程控制模型提供精确反馈。总体而言,P 5000是一种高度先进的工艺工具,旨在满足现代半导体生产的需求。该设备具有先进的光学和射频技术、双腔室设计、集成气体输送设备、等离子体控制自动化套件和现场计量系统,能够提供生产线中最高的质量和吞吐量。
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