二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9058266 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS P5000
ID: 9058266
晶圆大小: 6"
优质的: 1996
CVD System, 6" Process: TEOS 1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Reactor是一种先进的等离子体增强化学气相沉积(PECVD)反应器,高效可靠。该工具可实现大的加工室、高度的基板均匀性和紧密的晶圆内均匀性。AMAT P-5000 Reactor还采用低压操作来提高吞吐量,同时最大限度地减少晶圆应力并提供改进的薄膜均匀性。APPLIED MATERIALS P 5000 Reactor的主要部件包括等离子体集群源、双线圈感应耦合动力输送系统、低压过程室。等离子体团簇源使用了一系列并联电容器,其中包含三个高密度、线绕电极段。这种电极配置产生均匀、高性能的等离子体团簇,并针对PECVD进行了优化。双线圈感应耦合输电系统具有大的中心电子束线圈产生大的稳定等离子体场,以及更紧凑的周边线圈为过程提供必要的动力紧密而精确。低压工艺室采用单件钟形设计,通过最大限度地减少可能产生热点的组件,实现晶圆的宽均匀性和晶圆内均匀性。腔室的低压操作也允许更高的吞吐量速率。AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 Reactor提供高速沉积速率、均匀的基板覆盖范围、广泛的工艺条件以及与多种PECVD兼容材料的兼容性。该工具是生产具有严格临界尺寸控制和低缺陷水平的晶片的理想解决方桉。AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 Reactor可用于生产一系列先进涂层,包括硅基电介质和金属。该工具还可以帮助创建纳米结构、超敏气体传感器和其他类型的纳米级架构。应用材料P-5000反应堆针对性能、可靠性和成本效益进行了优化。此工具是半导体制造商的绝佳选择,因为它提供了紧密的一致性和出色的吞吐量。此外,它的低压工艺室和双线圈电感耦合供电系统使得它非常适合创建具有均匀性的临界层。
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