二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9083278 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS P5000
ID: 9083278
优质的: 1995
PECVD system Process: SiO2, SiN 1995 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一种先进的等离子体增强型化学气相沉积(PECVD)反应器,旨在提供各种表面处理中的精确温度控制、超快材料沉积和沉积过程控制。AMAT P-5000非常适合薄膜沉积、表面功能化、表面工程和半导体加工等应用。APPLIED MATERIALS P 5000具有创新的双区域等离子体源,可以精确控制腔室、基板和目标材料的温度。精确的温度控制保证了快速、可重现的沉积速率和最小应力。P5000还提供了对等离子体能量的精确控制。这允许在目标表面上定制能量分布,从而进一步增强沉积过程。AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000可用于将导电材料和非导电材料以干式或湿式形式沉积。它具有从低到超高的可调压力范围,允许精确控制沉积过程。AMAT/APPLICED MATERIALS P 5000还具有较大的基板区域,可以制造复杂的结构。APPLIED MATERIALS P-5000包含各种高级诊断和过程控制。探头设备使用户能够分析和监测沉积过程中的反应性离子蚀刻。分析系统允许实时监测沉积过程以及产生诊断和控制。过程控制模块允许反应堆参数的快速调整,使用户可以在旅途中进行过程更改。此外,AMAT P5000还配备了一个自动沐浴晶片传输单元,使晶片能够被运输和自动处理。这台机器还能够处理直径或厚度较大的晶片。浴具能够自动清洗和冲洗晶片,以增加安全性。AMAT P 5000是高精度沉积和表面工程应用的理想解决方桉,因为它为用户提供精确的温度控制、快速的沉积速率以及先进的诊断和过程控制功能。
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