二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9083280 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS P5000
ID: 9083280
优质的: 1996
PECVD system Process: SiO3, SiN 1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一种先进的、最先进的等离子体反应器,设计用于半导体、显示器、光伏和数据存储等行业的高级蚀刻和沉积过程。AMAT P-5000为先进电子产品的大规模生产开辟了新的可能性,被广泛认为是现有最可靠和用途最广泛的等离子体反应堆之一。APPLIED MATERIALS P 5000的灵活性是其主要优点之一。它具有多种腔室大小、基板大小和功能,允许为每个应用程序定制解决方桉。此外,该设备的设计相对紧凑,采用两层设计,便于安装到标准清洁室中。AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000具有一系列高级功能,可确保可靠和可重复的过程。腔室配有一个电源,能够提供高达1 kW的射频功率,另外还有端口选项,最多可提供多个额外电源。此外,该系统支持广泛的配方和更高的脉冲能量,使其非常适合难以沉积和蚀刻的项目。为了最大限度地提高效率,P 5000还配备了精确的气体输送装置。这台机器可以精确控制气体流量和使用的气体总量。总体而言,这种先进的气体输送技术允许高度的重复性和对生长和蚀刻过程的精确控制。最后,P-5000包括高科技数据收集和分析包。结合配方管理工具,可以在图表上实时监控流程进度和性能。这一先进的功能集使得AMAT P5000非常适合进行深入的工艺表征和优化。总之,APPLIED MATERIALS P5000是一个功能强大且用途广泛的等离子体反应器,它将蚀刻和沉积过程的能力扩展到了一系列行业。AMAT P 5000具有先进的技术特点、精确的气体输送、全面的数据收集和分析资产以及配方管理功能,是满足当今先进工艺需求的可靠选择。
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