二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9083281 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS P5000
ID: 9083281
优质的: 1995
PECVD system Process: SiO4, SiN 1995 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Reactor是等离子体处理应用的高性能解决方桉。用于半导体和微电子行业的蚀刻、沉积、薄膜生长等先进操作。AMAT P-5000使用1300瓦射频功率来操纵封闭室内的等离子体环境。通过使用质量流控制器应用材料P 5000能够精确调节腔内温度和压力,确保更一致的工艺结果。包括在内的通用磁性碎片清除系统(UMDRS)有助于通过从等离子体中清除不良微粒来提高工艺效率。APPLIED MATERIALS P-5000具有灵活的模块化设计,可以轻松定制以满足特定的客户需求。一系列的选项,包括射频偏置和电子回旋共振(ECR)泵,可进一步完善过程控制。它还配备了一系列流程监测和控制系统,向最终用户提供有关其流程的实时信息。其中包括用于蚀刻的反应速率控制器、用于沉积的表面剖面分析系统以及用于反应堆的高精度质量流量控制器。AMAT P 5000的嵌入式智能过程控制器(IPC)可帮助用户即时调整室内参数。这种直观的控制器使用户能够快速创建和运行可重复的流程,而实时流程监控可确保最高级别的流程一致性和质量。P500还利用AMAT先进的4基板探测系统,用户可以分析其基板的精度达到纳米级。P500还配备了强大的软件工具,如APPLIED MATERIALS Manufacturing Suite (AMMS),它允许工程师存储、监视和管理关键流程数据。AMMS为最终用户提供了一个全面的工具集,以实时跟踪和比较流程性能。然后,平台的数据驱动分析允许工程师快速调整参数,以最大限度地提高产量和工艺效率。简而言之,AMAT/APPLICED MATERIALS P 5000 Reactor是先进等离子体处理应用的强大、精密的解决方桉。AMAT/APPLICED MATERIALS P-5000具有可定制的模块化设计、先进的工艺监控系统和强大的制造软件,旨在帮助用户提高工艺质量和可重复性。
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