二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9083304 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是已获得AMAT专利的高性能等离子体蚀刻反应器。它是一种最先进的设备，能够对集成电路和其他电子元件进行微加工。该反应器的设计目的是为制造集成电路和其他微器件进行有选择的蚀刻和沉积过程。它利用高频无线电波和反应气体的溷合，做出精确的蚀刻和沉积结果。该反应堆能够进行最具挑战性的等离子体蚀刻和沉积过程，具有高度的精确度和重复性。AMAT P-5000建立在等离子体蚀刻反应堆的最新先进技术基础上.它采用了低频等离子体源，允许对等离子体进行极精确的控制和极好的均匀性，从而更好地定义特征和改进工艺时间。反应堆延长的工作体积在大规模生产时也提供了更大的吞吐量和效率。APPLIED MATERIALS P 5000等离子体蚀刻反应器具有二次电离来源，如离子束、电子和紫外线，可用于提高特征分辨率和工艺速度。先进的双通道等离子体源提供正负离子，允许精确的蚀刻控制。该工艺中使用的各种反应性气体还允许可定制的蚀刻工艺，该工艺可根据任何特定工艺的要求量身定制。反应堆还装有四基射频屏蔽系统，提供平衡可靠的等离子体环境，不受外界干扰。该系统采用了与微孔基板相互连接的层状表面，提供了有效的远场屏蔽和最小的热点温度。P5000等离子体蚀刻反应堆是同类中最先进的系统，以最大的鲁棒性和可靠性提供了最佳的工艺效果。其尖端的设计和定制工艺的能力使其非常适合广泛的半导体应用，例如高速数字和模拟元件的生产。