二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9083567 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是生产硅基薄膜的半自动等离子体反应器。该反应堆配有完全计算机化的设备，用于控制工艺环境和监测性能。这可以精确控制薄膜厚度和均匀性，以及控制沉积速率。反应堆由一个衣领室、一个底室和一个控制器面板组成。衣领室是主要的沉积室，它装有一个圆柱形阴极，它是提供沉积材料的原料，而真空泵则在室内产生真空。基室装有气体输送系统，该系统控制前体的流动和等离子体形式中使用的活化能。控制器面板是计算机化的控制单元，用于监控和调整过程环境中的变量。AMAT P-5000通过将前体和活化能传递到主沉积室来应用等离子体形式。前体是一种原料材料，被电离过程分解，被活化能激活。前体和活化能通过各自的腔室开口阀在两个腔室之间分配。然后将衣领室密封，使其能够在高达10-7 Torr的真空下运行。电离前体和活化能形成等离子体形式，用于将薄膜沉积到晶片上。等离子体产生的热量也驱除了随后钝化过程所需的薄膜中的氧气。薄膜以10-20埃/秒的典型速率沉积，沉积窗口为0.4-4.0埃。这一过程产生的薄膜极为均匀，具有极好的附着性能。薄膜厚度可以在三到几百埃之间，厚度和均匀性很容易控制。薄膜硬度可以定制，范围从40 Kgf到17 Kgf。沉积速率等变量如压力、射频功率、流速和脉冲宽度都可以用计算机化的控制机轻松调节。APPLIED MATERIALS P 5000是在多种应用中生产基于硅的薄膜的理想工具。用于平板显示器、光伏电池、MEMS、微电子等行业。凭借其先进的工艺控制，P 5000在生产精密控制、完美均匀性的薄膜方面具有无与伦比的性能。