二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9084588 待售

ID: 9084588
晶圆大小: 8"
WCVD system, 8" P5000 Mark II frame 28-Slots expanded gas panel 8-Slots storage elevator 21-Slots VME with 3 ½” FDD Position A: WxL WCVD Position B: WxL WCVD Position C: WxL WCVD ENI OEM‐12B Generators Phase IV RF match AMAT0 Heat exchanger.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000反应堆是一种先进的、自动化的等离子体增强型化学气相沉积(PECVD)设备,能够在制造先进电子材料时进行多种工艺。AMAT P-5000反应堆具有多个等离子体源,允许同时沉积多达六个单独的薄膜。这允许在各种厚度、结晶度和密度上创建设备,并且能够在设备制造中实现纳米级精度。APPLICED MATERIALS P 5000反应堆配置性强,具有多个反应堆和源,以及独立操作的开启/关闭阀和其他组件。这允许开发和执行广泛的工艺配方,使用户能够生产多种电子材料和结构中的结构。这种多流程配置还为用户提供了可以使用的流程配方类型的更大灵活性,从而允许根据设计需求或实验需求定制各种解决方桉。APPLIED MATERIALS P5000反应堆还设有一个自动化的物料来源控制系统,该系统允许反应堆内单个反应器的精确定时。这有助于确保所需的反应在整个底物中均匀发生,从而形成具有一致电学和光学特性的均匀层。此外,P5000反应器还可用于多层薄膜的模板和图桉化。应用材料P-5000反应堆能够在77K至650K的温度和500 mBar至950 mBar的压力下运行。它还具有集成的闭环流量控制单元,能够精确控制处理环境。这有助于确保设备产生的层的质量和可重复性。AMAT P5000反应堆可靠性高,结构紧凑,设计了许多便于拆卸和重新组装的部件。这使得它成为研究实验室快速原型制作的理想选择,从而能够快速开发产品并更快地将新型电子材料推向市场。总而言之,AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000反应器是一种用途广泛、可靠的PECVD机器,可用于制造先进电子材料的广泛过程。P-5000反应堆以其多个等离子体源、闭环流量控制和自动源控制工具,能够在一定厚度、结晶度和密度范围内生产高度均匀的薄膜。此外,它易于拆卸和重新组装,使其成为研究实验室快速成型的绝佳选择。
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