二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9087456 待售

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ID: 9087456
晶圆大小: 6"
Metal etchers, 6" (2) MXP-R2 Chambers with ESC (1) ASP Chamber (1) Wafer orient chamber (28) Line gas panel Phase 3 robot (29) Slot storage elevator.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000反应器是一种最先进的薄膜沉积设备,设计用于在半导体晶片上沉积多种薄材料。AMAT P-5000反应器能够在200 mm和300 mm晶片上沉积高质量的外延硅沉积,以及沉积各种薄膜,如非晶硅、金属氧化物、ha基氧化物和硅化物。此外,它还可以沉积有机材料的薄膜以及铝和铜的金属层。APPLICED MATERIALS P 5000反应器是一种单晶圆、闭空反应热处理系统。它包括一个离子束源,用于电离和引导气体在沉积室内流动, 用于控制高纯度气体前体流入的石英工艺窗口, 放置在工艺窗口上方的淋浴头,将离子引入室内并引导到基板表面, 一种用于在工艺室内精确定位每个基板的移动基板支架和一个涡轮泵送装置,用于在薄膜沉积过程中保持腔室内的真空。该机还包括用于基板装卸的精密机械臂,以及在沉积过程中使用的每种气体都有单独流量控制器的气体处理工具。AMAT P 5000的单片反应器能够达到900 °C的最高温度,可以在室温至最高温度的温度下使用。也可用于富氧环境,以提高膜沉积速率,降低沉积温度。资产还具有集成扫描头,可用于测量沉积层的材料特性,如薄片阻力、薄片掺杂和薄膜厚度。AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000是一种多用途的薄膜沉积工具,由于其独特的设计和特点,可实现精确的沉积。该模型能够沉积各种薄膜材料,效果优异,适用于洁净室环境。该设备自动化程度很高,使用起来相对容易,其机器人臂、动力控制和过程监测系统旨在提高沉积过程的生产率。
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