二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9097963 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一种先进的等离子体增强化学气相沉积（PECVD）反应器。它是一种生产就绪的工具,旨在帮助制造商优化流程并提高产量。AMAT P-5000反应器是一种低压、大面积、可扩展的沉积设备，能够产生氧化物、氮化物和多硅层。它在先进集成电路（IC）器件的沉积以及大面积显示器和光伏（PV）器件的生产中特别有用。APPLICED MATERIALS P 5000系统是一个灵活的平台，能够对沉积过程进行高精度的控制，允许生产出薄薄的栅极氧化物、栅极堆栈和扩散层。它的低压环境减少了氧化和污染，导致更薄、更均匀的层具有更好的电性能。通过使用氮气或氦气的惰性气体环境，AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000反应堆可实现高通量和可重复性，且源和淋浴头的侵蚀最小。AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000单元具有先进的基板加热机,可确保晶圆表面均匀、高温均匀,并提供出色的现场计量。这可以实现准确的实时过程控制,并减少由于具有挑战性的底物化学特性而导致的刀具停机时间。AMAT P 5000反应堆还提供最先进的石英监测，以测量不同物种的光谱排放，并优化不同工艺的沉积条件。APPLICED MATERIALS P-5000工具可以配置多个下腔过程，包括远程等离子体、蚀刻后等离子体、高级蚀刻和沉积过程。先进的磁控管溅射、PVD和湿沉积工艺也适用于下腔。一个集成的自动化晶圆处理资产与机器人臂端效应器提供了快速和可靠的加载和卸载晶圆。AMAT P5000模型配备了复杂的计算机控制过程模块，提供了极大的易用性。P5000s模块化体系结构可确保快速轻松地升级,从而降低拥有成本。P-5000还提供了快速的周期时间、低排放、自动维护协议以及与现有制造网络的轻松集成。P 5000设备具有很高的可靠性和效率,对于希望优化流程和提高吞吐量的制造商来说,它是一个理想的选择。