二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9100769 待售
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ID: 9100769
晶圆大小: 8"
优质的: 1995
Metal etcher, 8"
Process: Al
(2) MxP
ASP Chamber
Wafer transfer system
ASTEX Microwave power
Gas lines
Hardware:
Main process modules:
Chamber A
Metal etch B
Strip D
Mark ll Main frame
Storage elevator: 29 Slots
Independent helium cooling
Expanded VME
Phase III robot
Phase II cassette
Sub modules:
AC Remote frame
Digital cables
Analog cables
Emergency interlock cables
Heat exchanger
ENI OEM 12A RP Generator
ENI OEM 12B RP Generator
ASTEX Microwave
1995 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Reactor是AMAT开发的一种化学气相沉积（CVD）设备。该系统是为大批量生产而设计的先进半导体沉积工具。反应堆由几个硬件部件组成，包括一个带有晶圆支架的敏感器、一个气体喷头、一个加热器和一个气体输送单元。磁感器是一个高大的圆柱形腔室，具有扁平的圆形底座，用于在沉积过程中保持晶片。晶圆座安装在磁感器的盖子上，以指定的顺序排列晶圆。气体喷头位于反应堆内部。它配备了多个喷嘴，将特定数量的反应物气体从送货机喷射到晶圆表面。AMAT P-5000反应器中包括一个加热器，用于控制反应器内部的温度，从而能够准确选择反应温度和沉积速率。APPLIED MATERIALS P 5000 Reactor还包括一个自动气体输送工具，在正常工作压力下提供正确的气体溷合物。该资产还有助于保持清洁环境，防止晶圆污染和沉积过程。最后，P 5000反应堆配有一个安全模型，用于监测内部压力、气流和温度，确保最佳沉积参数，并提供安全的工作环境。应用材料P5000反应堆的CVD工艺是一种高质量、一致、均匀的产品。这种设备非常适合半导体器件制造商，因为它可以处理大批量生产并提供高产率。
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