二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9103153 待售

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ID: 9103153
晶圆大小: 6"
CVD Nitride system, 6" (4) Chambers 15 Slot storage elevator Phase III robot VAT ZA Style slit valves rectangular insert Penulator flat screen monitor Solid state hard drive 28 Slot gas panel Mini controller with remote gas control (28) Horriba STEC Z500 digital MFC’s Modular AC rack Load lock lid hoist Chamber A,B,C,D: Silane nitride giant gap chamber Thick plate gas box with teflon insulator Direct drive cluster throttle valve Nupro gas valve, filter, manifold MKS 627B Dual 10-100 torr baratron heated Includes: Lift hoop Fingers Susceptor Not included: RF Matches Generator Heat exchanger Currently de-installed.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一种最先进的研发反应堆,用于生产用于电子芯片技术的薄硅和其他材料。它能够生产小于10nm的器件层,适用于制造半导体器件,如石墨烯和光伏产品。AMAT P-5000利用一个晶片加工室,由一个短介电衬里和一些强大的组件组成,包括加热元件、气体疏散设备和喷射器。加热元件是一种电阻陶瓷换热器,能够快速加热并保持稳定的温度。气体疏散系统设计用于清除任何不需要的气体,而喷射器则用于向腔室注入过程气体。腔室由一个电源单元支撑,该单元向各个组件提供连续的电力,同时使用气体净化机清理过程中的气体。APPLIED MATERIALS P 5000旨在通过应用射频溅射或其他基于能量或电荷的工艺选择性蚀刻硅、金属和其他材料。该反应器能够比传统的基于光刻图样的工艺,例如用于芯片制造的工艺,实现更高的精度和更精细的图样。反应堆通常在0.5至5mTorr的等离子体压力下运行,能够产生介电层、金属和其他材料。AMAT P5000支持一系列工艺参数和选项,例如温度范围、沉积时间和整个工艺周期时间。这允许生产复杂的3D微结构和其他复杂的芯片设计。该反应堆能够产生用于电路和后端工艺的均匀表面,并用于微电子工业中,用于制造超薄集成电路。P5000已被证明是一种可靠和高效的设备,使用户能够在传统光刻工艺所需时间的一小部分内实现准确、高性能的设备。凭借其微调的控制能力和优越的性能,P-5000成为微电子行业研究人员的宝贵工具。
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