二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9103464 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000反应器设计用于半导体基板的柔性离子植入和离子束沉积处理。它能够实现下一代半导体器件的高精度处理。AMAT P-5000设计为模块化和高度可定制,使客户能够根据晶片的特定要求调整其离子植入物和离子束沉积过程。该设备具有两个腔室和一个腔室配置，在其最大配置中最多可支撑四个晶片。腔室由独立的吸尘器操作，每个腔室都有各自独立的密封环境。APPLIED MATERIALS P 5000的第一室容纳了离子源、反应堆室、质谱仪系统和选源真空单元。离子源是具有聚变电源的圆柱形扩散容器。它提供了广泛的能量和发射几何形状，以适应各种晶圆处理操作，如掺杂，掺杂传输和掺杂二极管限制。AMAT P5000反应堆室装有浮动磁环和可调阳极板，提供均匀的离子束轰击条件和非常低的背景电流。APPLIED MATERIALS P5000质谱仪是为准确识别杂质种类和微调植入物及沉积参数而设计的。P 5000的第二室装有过程控制和数据采集计算机，其设计目的是提供对离子植入物和离子束沉积过程的全闭环控制。该工具具有先进的用户友好图形用户界面,允许以最小的配置快速轻松地进行控制。P-5000能够完全控制工艺室内存在的所有物种的浓度,并能够控制产生的光束的光束电流、离子电流、能量和化学计量。该资产还能够以纳米级精度实现可重复的结果。AMAT P 5000的整体设计使其成为开发高性能晶圆处理技术的宝贵工具。模型的模块化性质，加上其高精度的微处理能力，使得它成为一个强大的工具，可以根据几乎任何基板处理任务的需要量身定制。通过利用AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000的设计和功能,工艺工程师可以以前所未有的效率和灵活性实现高精度结果。