二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9111886 待售
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ID: 9111886
晶圆大小: 6", convertible to 8"
优质的: 1992
Metal etcher, 6", convertible to 8"
Chamber A: MxP Metal, M-Chuck Type
Chamber B: MxP Metal, M-Chuck Type
Chamber C: ASP
Chamber D: N/A
Storage elevator: 29-Slot
Robot: Standard 6"
Cassette indexer: 6"
Chucking type: mechanical clamp
Chillers: (4) Dasan DHX-440D
Dry pumps: (4) Edwards QDP80
Gas scrubbers: (2)
Monitors: (2)
Power cables, RF cables, and signal cables
Chambers A Configuration:
Gas1 Bcl3 UNIT HFC 8160 200 Sccm
Gas2 N2 UNIT HFC 8160 100 Sccm
Gas3 Cl2 UNIT HFC 8160 100 Sccm
Gas4 N/A
Gas5 N/A
Gas6 N/A
Back He He MKS
Chamber Manometor MKS
Turbo Pump Seiko Seiki
Turbo Pump Controller Seiko Seiki SCU-21D
RF Generator ENI OEM-12B 1250W
RF Match AMAT
Chambers B Configuration:
Gas1 Bcl3 UNIT UFC-1160A 100 Sccm
Gas2 N2 UNIT UFC-1161A 100 Sccm
Gas3 Cl2 UNIT UFC-1160 100 Sccm
Gas4 O2 UNIT UFC-1163A 100 Sccm
Gas5 CF4 UNIT UFC-1164A 50 Sccm
Gas6 CHF3 UNIT UFC-1165A 100 Sccm
Back He He MKS
Chamber Manometor MKS 1Torr
Turbo Pump Seiko Seiki STB-301CB1
Turbo Pump Controller Seiko Seiki SCU-21D
RF Generator ENI OEM-12B 1250W
RF Match AMAT
Chamber C Configuration:
Gas1 N2 UNIT UFC1860 2SLM
Gas2 O2 UNIT UFC1160A 5SLM
Gas3 N/A
Gas4 NH3 UNIT UFC-8160 100 Sccm
Gas5 H2O VDS Tylen UC-4900MEPR 500Sccm
Chamber Manometor MKS 10Torr
Chamber Manometor MKS 100Torr
Microwave Generator ASTECK AX-2115 1500W
Currently de-installed
1992 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000反应堆是一种创新的反应堆设备，专门设计用于为先进材料加工提供多用途且成本效益高的工艺解决方桉。它为诸如蚀刻、沉积、氧化和退火等工艺提供了一系列全面的解决办法，同时考虑到与此类工艺相关的成本和复杂性。该系统有小型化和全尺寸配置，适用于各种材料，从电介质到金属。AMAT P-5000反应器利用电感耦合射频等离子体技术的专利组合和先进的电子回旋共振源，用于为高速度脉冲蚀刻过程创造高活动性富氧气氛。这项技术提供了一系列的优势，比传统等离子体源，包括更高的蚀刻速率，提高均匀性，减少工艺变化。此外，APPLIED MATERIALS P 5000配备了先进的数控系统和精密的软件，用于执行工作，精确度提高。APPLIED MATERIALS P5000设计用于高通量和可重复的过程,同时产生具有高可重复性和可重复性的统一特征。反应堆采用双点化学气相沉积技术，具有较高的沉积速率和均匀性。此外，AMAT P 5000可以处理薄至单纳米的薄膜和厚至10微米的大薄膜，沉积速率高达每秒一纳米。P-5000使用自动基板升降机进行装卸，从而缩短周期并最大限度地提高吞吐量。它的可编程过程控制与高级软件算法同时处理多个作业，以确保为每个应用程序优化过程配方。自动装卸装置能够以极高的速度提供高精度的结果。P 5000机器还配备了高级监控和诊断模块，其中包括几个工具级操作，允许用户监控、诊断和故障排除资产性能，优化设备性能。它还提供了易于使用和理解的用户友好软件界面。这样可以确保用户能够快速、轻松地设置作业并编程完成其应用程序所需的必要流程。AMAT P5000的高级诊断和分析功能使用户能够快速监控和诊断模型性能,以优化其流程。AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000为先进的材料处理提供了一个全面的解决方桉,它采用了创新的技术和高度先进的控制系统,使复杂的过程能够以高精度和可重复性进行。该设备适用于一系列材料，从纳米厚膜到10微米厚膜，与传统等离子体源相比提供了一系列优势。它还提供复杂的软件,方便编程和循环时间,旨在最大程度地提高吞吐量。
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