二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9116159 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一种用于蚀刻和沉积过程的前沿半导体反应器。该反应堆提供可靠的设备性能、经济高效的运行和过程控制，从而能够快速交付新产品。AMAT P-5000反应器具有13.56MHz的发电机，既可用于高功率射频溅射，也可用于高密度电感耦合等离子体（ICP）工艺。该工艺室是为高效的气体溷合、精确的流量控制和精确的气体浓度维护而设计的。通过隔膜机械前泵保持真空水平。APPLICED MATERIALS P 5000反应器还采用真空门阀进行精确梯形压力调节.AMAT/APPLICED MATERIALS P 5000反应堆除了具有高性能外,还通过其独特的设计节省了成本,它利用最佳的硬件最大程度地提高了单位表面积安装离子通量密度的比率。过程中使用的电源效率很高,因此,由于需要的操作电源较少,因此会带来成本效益。应用材料P-5000具有脉冲和连续直流偏置源的组合，具有精确的脉冲宽度、频率和幅度控制。这使得优化蚀刻和沉积配方成为可能，确保了优良的产量和质量。P-5000通过精确的温度和压力控制提供了均匀性、密度和厚度等增强的膜性能。精密的工艺设计、对薄膜生长的精确控制和提高的吞吐量是AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000反应堆的一些关键优点。反应堆有一个离子源，不同的配偶体和层都有单独的发射器。此外，这座反应堆还有气体注入系统，确保在腔室内不同级别的气体精确分布和压力控制。AMAT P5000反应堆进一步利用全数字化低压直流、交流电（AC）和溅射电源支持高速制造过程。通过提供可靠的设备性能和经济高效的操作，P 5000是半导体制造的热门选择。