二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9168800 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一种下一代等离子体增强化学气相沉积（PECVD）反应器，用于沉积各种薄膜器件，如绝缘子上硅（SOI）晶体管、薄膜集成电路和其他光电材料。AMAT P-5000能够在批量和串联配置中运行,并在大型基板上提供高速率、高质量的薄膜沉积,最终的材料具有优异的器件性能。其优越性能的关键是使用感应耦合等离子体（ICP）源和电容耦合等离子体（CCP）源。ICP源产生高效且均匀的等离子体，可以精确调整以改变等离子体反应速率，而CCP源提供相对较低的等离子体反应速率。APPLIED MATERIALS P 5000的气流分配系统进一步优化了产生的等离子体的均匀性和反应速率。此外,APPLIED MATERIALS P-5000利用温度控制的上部电极,可调至600 °C。P-5000具有对电极施加负偏置的能力，在大基板上提供了出色的薄膜沉积效果。AMAT P 5000由于缺乏微粒前体来源和使用了优化的气流分配系统，进一步得益于极低的微粒水平和缺陷形成。此外，感应耦合等离子体（CCP）源提供了保证大面积良好膜均匀性的有效手段。总体而言，AMAT/APPLICED MATERIALS P-5000提供优于大型基板的薄膜沉积效果，是寻求高质量、高速率PECVD工艺的人的绝佳选择。利用ICP源提高等离子体的效率和均匀性，结合CCP源提供更低的反应速率和更好的膜均匀性，以及调节温度和偏差的能力，使P 5000成为一个优秀的全能PECVD系统。