二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9172854 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是由AMAT, Inc.开发的一种支持等离子体的化学气相沉积（CVD）反应器。反应堆利用一系列不同的磁场、射频频率和等离子体源来达到广泛的加工温度和通量水平，从而实现更高的沉积速率、更高的工艺产率和单批处理大晶片的能力。使用AMAT P-5000可以进行的工艺包括外延、高性能介电层沉积、金刚石状碳沉积、光刻灰化、铝和硅蚀刻以及各种蚀刻清洗工艺。APPLIED MATERIALS P 5000具有灵活的环境,能够有效处理具有多种沉积温度、通量、腔室配置和气体组合的材料。AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000以其前身的能力为基础,还具有系统可扩展性,能够适应更复杂的沉积。该系统还改进了源寿命，扩大了源范围，改进了用于控制特定工艺参数的综合烤箱传感器。应用材料P5000反应堆有三种室构型：单室构型（SC）、双室构型（DC）和三室构型（TC）。该腔室采用不锈钢结构，可更换金种子蒸发器模块，以提高均匀性和完全可编程的气体分布，在沉积化学中具有灵活性。每种配置的一系列来源和组件有助于确保即使在大型基板上也能均匀和一致地沉积材料。P 5000可用于沉积多种材料，包括铝、钛、硝基掺杂铝、铬、喹、钨和二氧化硅。精密控制工艺参数、均匀沉积、高通量的能力，使得沉积质量高，不符合成本最小化，处理时间短，效果最佳。AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000改进的节能冷却技术使沉积面积更大、更均匀、平整度更好。此外,该系统还配备了一些组件,这些组件的设计目的是通过自动化常见任务来减少维护和停机时间,包括自动交换源和泵、改进射频和偏置匹配以及自动进行运行结束传感器校准。总体而言，P5000是一个先进的、多用途的等离子体CVD反应堆，用于沉积各种材料，满足各种加工要求。它是在多种过程中实现高质量、高产成果的理想选择。