二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9177255 待售
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已售出
ID: 9177255
Etcher
(2) Chambers
Cleanroom: 4", 5", 6" robot
(15) Slot storage elevators
IPT P/N: 10A0207-5 Rev D
Mini SBC reset
(2) Analog inputs
(2) Analog outputs
VGA Video
(3) Program run stepper conts
(5) DI / DO +24 V HB
(3) LH Turbotronik NT 340 M
Magnetic bearing PCB V 2.0
(2) TC Gauges
Lambda LIS-31-12, 12 V +/-5%, 1.25 A @40 C
Carlton-bates WBPS-15-7 15+/- 5%, 7.0 A @40 C
Lambda LIS-71-15, 15 V +/- 5%, 5.0 A @40 C
Buffer I / O
AI MUX
(2) OPTO
(4) APPLIED MATERIALS Chopper drives
APPLIED MATERIALS 0850-00088 Wall mount display panel
Includes components:
PC Endpoint:
Part no: 0010-36543
REV F
471-KM
Chamber A:
APPLIED MATERIALS RF Match:
P/N: 0010-33566
Chamber C:
APPLIED MATERIALS RF Match:
P/N: 0010-33566R
Chamber D:
APPLIED MATERIALS RF Match:
P/N: 0010-33566R
LUXTRON 1104 Monochromator
Options: 5001-1104-20-00
(3) VAT 0300X-MA24-1006 / 0490 A-273567 Throttle valves
(3) 1 Torr pressure transducer manometers
Circuit breaker panel
(2) Frame side panels
(3) Remote generator I / O cables
Remote NESLAB I / O cable
(3) Remote pump start cables
(3) Remote vacuum I / O signal cable
(3) RF Generator cables
(3) RF Match I / O cables
Robot alignment controller.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000工艺室是一个功能齐全的高性能反应堆.该反应堆为实现最大的沉积速率、均匀性和过程控制能力而设计,包括用于N2或O2气流控制的集成InLine直接测量（IDM）设备,以及经过验证的等离子体源、先进的电子回旋共振技术、热线损坏保护以及超长寿命的优越空气锁定。AMAT P-5000具有254mm x 304mm的大加工面积,是大型和小型生产中加工各种基材的理想选择。该系统包括一个1杆真空源，结合先进、精密的无油泵送系统，包括分子阻力泵和涡轮分子泵。这种组合提供了高达每秒200,000升的超大抽水速度，允许快速、可靠的工艺周期。较大的加工面积旨在实现最大吞吐量,并在一次运行中提高生产蜡。该装置还配备了先进的直流和射频电源，允许金属、氧化物、多晶硅、电介质和氮化物的光滑、可靠的沉积。其电子回旋共振技术效率高，保证了整个晶圆区域的均匀沉积条件。采用独特的两步法，以最小的气体和功耗确保高沉积速率。热线保护、短路保护、低压保护、过压保护等安全特性为安全过程提供了额外保证。APPLICED MATERIALS P 5000也兼容了广泛的加工气体和易燃储罐，而内建的氙气进料器可以方便的过程调整而不需要外部气体供应。这台机器还支持各种可选配件，包括离子源和离子室、德加系统、频谱分析仪和晶圆提升机构，以及一个非常容易使用的直观控制软件。总之，应用材料P5000工艺室是金属、氧化物、多晶硅、电介质和氮化物高效可靠沉积的理想选择。其高吞吐量的能力，加上ECR技术等先进功能和内置氙气进料器，使其成为任何需要平稳可靠的工艺周期并取得可靠成果的应用的绝佳选择。
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