二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9179591 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS P5000
ID: 9179591
晶圆大小: 6"
优质的: 1995
PCVD TEOS System, 6" Mark II frame Chamber and gas configuration: (3) PETEOS (3) Chambers for TEOX A: 1100 sccm N2, 1 sccm N2, 3 slm N2 TEOS Bubbler B: 1100 sccm N2, 1 sccm N2, 3 slm N2 TEOS Bubbler C: 1100 sccm N2, 1 sccm N2, 3 slm N2 TEOS Bubbler Chuck type: Mechanical clamp Elevator size: Short Frame type: Standard Loader type: Manual Loadlock Gas box: Hot RF Matches Indexers Automated cassette-to-cassette handling Does not include: Dry pumps Chiller Heat exchanger Spare parts Turbo pumps Controllers Generator racks AC Power box 1995 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一种等离子体增强化学气相沉积(PECVD)反应器。它是一种工业级、高通量的工具,用于薄膜沉积应用。AMAT P-5000为半导体、氧化物和金属等薄层材料在光电、数据存储和微电子器件生产中的沉积提供了理想的环境。应用材料P 5000利用一个双级管道,容纳一个工艺室和反应室。该工艺室包含基板,可加热至最高温度500 °C。反应室容纳等离子体源和控制电子设备,负责等离子体的产生和监测。在反应室中,等离子体是通过射频源产生的,并由三个气源--氮、氙和氢--维持。底物受到高能离子的轰击,这些离子作为蚀刻剂或沉积剂在底物上形成薄膜层。12步工艺循环意味着基材可以在数小时内处理,并具有高度的可重复性。AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000提供了易于重复和一致结果的工具设置,并通过用户友好的软件提供了灵活性。它的设计和制造是为了满足各种薄膜沉积工艺的具体工艺要求,有各种配方和工艺化学方法兼容。P 5000是一种可靠的沉积系统,可用于多种应用,从微电子学到数据存储到光伏电池等。它旨在允许快速高效地生产具有高质量保证的第一次正确的集成电路。它还提供过程控制、自动化和数据收集系统,以便在低温下对非常薄的均匀薄膜进行一致和准确的沉积。总体而言,AMAT P 5000是一种工业级、高通量的PECVD反应堆,具有很高的灵活性、效率、一致性和可靠性。凭借其先进的特点和高度的过程控制,可以帮助创建高质量、高精度、高产量的集成电路。
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