二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9181556 待售
网址复制成功！
单击可缩放
ID: 9181556
晶圆大小: 8"
优质的: 1995
TEOS CVD Systems, 8"
(3) Deposition Precision Liquid Injection System (PLIS) chamber
Sputter etch chamber
Parts / Modules:
DELATECH 859 Scrubber
Main power box with (4) ENI RF generators
DELTA RF Generator rack with (3) RFPP generators
APPLIED MATERIALS '0' Heat exchanger
Front and rear monitor
(3) EBARA Pumps: 50x20
(2) EBARA Pumps: 40x20
Mini controller
1995 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是由软件和硬件制造商AMAT, Inc.设计和发布的一种反应堆。AMAT P-5000是芯片制造商用来进行高质量光刻工艺的工具。它利用遮罩暴露和沉积过程在基板表面上创建精确的图样。APPLICED MATERIALS P 5000是一种高功率、全自动的机器，由500瓦放电灯供电，具有配方控制的晶圆传输系统。AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000的智能设计使用户能够轻松切换10种不同的光刻工艺,包括光刻和蚀刻。AMAT P5000能够产生直径小至50纳米的图样。它还提供手动和自动曝光以及允许用户选择光刻曝光途径的功能。P 5000以高效可靠的性能以及直观的用户界面而闻名。其主要部件包括机器人手臂、曝光平台、控制模块和石英曝光容器。机器人手臂确保将基板和口罩精确地放置到曝光室中。曝光平台提供可变孔径大小,用于与掩模配合使用时的精确图桉。控制模块允许精确的曝光控制、聚焦和晶圆传输速度调整。最后，石英曝光容器设计为在操作过程中不受化学和热效应的影响。AMAT P 5000是需要其工具精确可靠曝光的芯片制造商的绝佳选择。它的特点和灵活性使用户能够快速准确地执行一系列光刻操作。其强大的设计使其成为最多300 mm晶片的可靠解决方桉,为需要精确、可重复阵列处理的芯片制造商提供了高度的灵活性。最后,其用户友好的界面以及与现有软件和硬件系统的兼容性使其易于融入生产环境。
还没有评论