二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9181885 待售

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ID: 9181885
DxZ Chamber Nitride with P5000 harness.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一种硅基沉积设备,用于将薄膜沉积到半导体基片上。该系统专为满足先进半导体制造工艺的需求而设计。该装置能够以前所未有的精度控制沉积薄膜的厚度、覆盖面和均匀性。AMAT P-5000具有业界最高的真空性能和过程控制能力。该机配备了坚固的电容耦合等离子体源,实现了薄膜沉积参数的最佳控制。该等离子体源与工具的高级闭环控制协同工作,使用户能够准确、精确地调节薄膜参数。此外,APPLICED MATERIALS P 5000包含预装的沉积配方,并提供了大量的气动元件来定制资产操作和优化薄膜沉积。这些组成部分确保AMAT P5000始终达到最高标准。P5000还具有实时现场监控功能,用户可以从头到尾快速准确地评估薄膜形成和沉积参数的变化。此外,该模型还包括一个防腐蚀屏蔽层,通过保护加热器和气体管线免受污染物的侵蚀,帮助延长设备的使用寿命。P-5000的最高温度为1050摄氏度,可容纳八英寸大小的基板。其标准腔室设计通过获得专利的标线图桉加快了吞吐率并缩短了循环时间,从而无需额外的设备。总体而言,AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000是一种可靠、可靠和精确的沉积系统解决方桉,用于制造精确度很高的薄膜。该设备强大的功能、高效的设计和创新的特性使其成为任何先进半导体制造工艺的理想选择。
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