二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9186158 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一种用于化学气相沉积过程的反应器，特别是用于在半导体晶片上沉积薄膜。这类设备在晶圆的整个表面上提供极为均匀的薄膜沉积，使其非常适合制造复杂的电子元件。AMAT P-5000是一种温度控制的水平多源旋转晶片反应器，设计用于低压和高压处理。它的设计由两个源和八个淋头组成，全部以圆形配置排列。一个单一的源位于反应堆的中央，并向淋浴头倾斜。这种设计允许在整个晶片表面均匀沉积薄膜，提供高质量的产品。APPLICED MATERIALS P 5000能够在500至950°C的温度下运行，并配备了一个红外温度传感器，可监控整个晶圆表面的均匀性。此外，闭环温度控制系统有助于精确调整温度，使薄膜在晶圆上均匀沉积，并允许处理单层和多层结构。系统顶部是一个真空室，容纳淋浴总成，并保护其免受环境影响。这个真空室装有气体分销商，这有助于确保气体向淋浴喷头的均匀分布。淋浴头组件由水平弯曲的喷嘴组成，以本质上是长方形的图桉排列，中心有一个圆形开口，圆角有四个额外的喷嘴。与真空室相邻的是处理室，它容纳基板--通常是硅片--并且与淋浴头直接接触。工艺室内部是一个高真空泵，它在腔内维持所需的气氛。最后，AMAT P 5000套件包括顶部温度和速度控制器，能够精确控制化学气相沉积过程的参数。这样可以确保材料均匀地沉积在晶片上，并且材料特性如结晶度和表面粗糙度高度均匀。这些控制器的组合为所有类型的薄膜沉积提供了最佳参数设置。