二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9190859 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS P5000
ID: 9190859
晶圆大小: 6"
优质的: 1992
Etcher, 6" 1992 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000体现了新型反应堆工程的广泛应用。它是一种全自动等离子体热化学气相沉积(PECVD)反应器,非常适合薄膜和涂层工艺。它是一种先进的设备,能够在精确控制的情况下沉积各种材料。作为一个串联的PECVD系统,它具有以速度、质量、可控性提供高吞吐量的能力。AMAT P-5000设计具有坚固可靠的工艺室,具有单一端口多用途设计。该端口是一个多用途模块,配备了多种可选的基板介绍、样品输送、气体输送和取样硬件。它的设计目的是在室内各种温度和压力范围内提供受控的温度和精确的沉积速率。该腔室可通过精确的温度控制来维持低压和高压。该腔室采用加固陶瓷墙设计,确保其耐用性和寿命长。它还具有精确的等离子体控制和精确的温度测量功能。APPLIED MATERIALS P 5000配备了多轴机器人,用于精确的基板控制。控制单元由一个精密的基于PLC的机器人控制器组成,集成到反应堆机器中。为多轴基板定位提供精确的驱动和精确的运动控制。此外,精密的PLC控制器可以控制沉积参数,包括温度、压力、基板尺寸、沉积面积、沉积角度和气体流量。该反应堆具有高性能运动控制器,可配置多个刀尖,用于不同的基板尺寸、角度和位置特征。它还具有高级软件,包括易于使用的图形用户界面(GUI)。就一般操作性能而言,P5000配备了先进的温度控制工具,能够实现准确和可重复的沉积结果。它还提供了卓越的过程重复性、实时图像分析、单一配方的高重复性和宽广的沉积窗口。此外,这种强大的资产不仅提高了生产效率,而且显着降低了组件成本和产品周转时间。简而言之,AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000是一种自动PECVD反应器,非常适合薄膜和涂层应用,确保精确控制和卓越性能。
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