二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9193408 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Reactor是一种高精度的工艺工具，设计用于先进的半导体应用和材料研究。它具有250°C至1100°C的温度，以及一系列的加工气体，包括纯N2、O2和Ar。AMAT P-5000反应堆还具有高压、低热质量、高温和低热时间常数。APPLIED MATERIALS P 5000 Reactor是一种原位工具，能够实现多种沉积速率，包括CVD和PVD工艺。它可以在垂直或水平模式下运行，可用于单晶、纳米级和多层膜的沉积和快速热处理。AMAT P5000 Reactor也适用于先进的半导体工艺开发和器件工程。AMAT P 5000反应器对于纳米级薄膜和复杂多层的生产以及高密度集成电路的增长特别有用。它提供了出色的动力学和控制，允许对薄膜厚度、粗糙度和其他形态参数的控制。其大的腔室尺寸、低的热质量、低的热时间常数使其适合功能层材料的高通量生产。应用材料P-5000反应堆具有广泛的可用工艺和工艺配方，能够实现高沉积速率和优异的均匀性。它还能够在侵略性条件下生产高速率薄膜。除了其广泛的加工能力外，P 5000 Reactor是完全自动化的，可以很容易的整合到现有的製造线。P5000反应堆能够在各种温度和压力条件下运行。它具有整个腔室均匀的温度区，并利用主动冷却来确保工艺条件的均匀性和稳定性。它还提供了一个用于直接加工或物料转移的组件易于提升的集成提升系统。最后，AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000反应器是一种先进的工艺工具，设计用于先进的半导体材料加工和研究。具有较高的沉积速率、均匀性和良好的动力学控制能力。它的大腔室尺寸、低热质量、主动冷却、集成提升系统使其适合广泛的应用。