二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9198050 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS P5000
ID: 9198050
CDE System.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是用于制造半导体晶片的高效反应堆设备。它由几个关键组件组成,这些组件都安装在一个单一的集成平台中。该工艺室是AMAT P-5000的主要组成部分,用于半导体晶片的加工和沉积层。它是一个水平的,直径335mm的真空室,有250 mm的石英船系统,周围是石英壁。使用两台250W微波发生器、两台30KW感应耦合器和两台20KW电子束喷枪加热工艺室,使其达到高达1300 °C的温度。它还设有一个带有入口和出口端口的煤气箱和一个在加工过程中提供所需气体的气体分配装置。等离子体源是APPLIED MATERIALS P 5000的第二主要成分,用于生成加工所需的等离子体。它包括一个300W电感耦合发电机、一个磁控管源、一个气体分发器和一个F系列线圈机。等离子体源通常以"放任"模式运行,并具有可选的压力,从而可以精确控制离子能量和沉积速率。射频发电机是AMAT P 5000的第三大部件,用于为腔室供电。它提供最大150kW功率,可在300-1000 kHz的脉冲频率范围内调节。其主要目的是提供加工室中晶片所需的功率。射频过滤工具是P-5000的第四个主要组成部分,用于增强资产的整体性能。它包括三个滤波器,以提供最大化的功率效率和电路保护。第一个滤波器,即开关滤波器,降低高频噪声,而第二个和第三个滤波器,分别是Pi和Chebychev滤波器,减少马刺和带外排放。APPLIED MATERIALS P-5000的最后一个关键组件是它的控制器,它能够在处理过程中对所有组件进行精确的监控。它包括一个模拟控制回路,用于监测反应堆温度、压力和其他参数,以及一个数字控制回路,用于控制腔室、等离子体源和射频发生器的功率水平。APPLICED MATERIALS P5000是用于制造半导体晶片的高效、通用的反应器模型。它的集成平台,由工艺室、等离子体源、射频发电机、射频过滤设备和控制器组成,允许对沉积过程进行精确控制,使高质量的半导体能够始终如一地生产出来。
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