二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9199844 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一种用于处理半导体晶片的最先进的低压等离子体反应器。该设备专为各类材料和表面的受控沉积、蚀刻和清洁而设计。AMAT P-5000能够处理高长宽比光刻胶应用.它在等离子体系统中是独一无二的,因为APPLIED MATERIALS P 5000可以处理前端线（FEOL）和后端线（BEOL）操作的高级材料。它配备了能够提供高达400 W射频功率的高功率射频（RF）发电机，提供卓越等离子体均匀性和选择能力的独特工艺室，以及针对硅基基板优化的强大的可编程自动化。AMAT P 5000是高长宽比工艺的理想选择,例如窄尺寸线和间隔的阵列。它通过使用集成的热墙射频发电机提供出色的蚀刻速度和选择性,可提供高达400 W的射频功率。这样就产生了一个较大的处理窗口,有助于减少实现改进过程结果所需的过程步骤数量。AMAT P5000利用内部蚀刻气体,压力为0.1-100 mTorr,温度控制高达450°C。它提供了一个高性能的自动化系统，使气流、温度和压力设置在整个处理过程中实现最佳组合。此外,还可以针对各种进程轻松修改设备设置。该机的专有腔室设计由先进的双模水冷PREDSTORM®衬里组成，可有效降低等离子体的不均匀性，增强工艺能力和可重复性。AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000专利的垂直几何热优化径向长（VG Tylor）喷射工具有效地为您的工艺提供排气（真空）和工艺及净化气体。P5000提供出色的PC和移动通信功能,使您的员工能够从任何地方监控和管理资产。该模型利用强大的烤箱控制模块（OCM）进行精确的温度控制、原位诊断和全晶圆级工艺控制，以实现最大的工艺重复性。总之，APPLIED MATERIALS P-5000是一种先进的高科技晶圆反应器，提供无与伦比的工艺控制，能够进行高质量的沉积、蚀刻和清洁操作。它提供卓越的气体均匀性、出色的温度控制和令人印象深刻的PC/移动通信功能。如果您的设备希望执行高质量、高长宽比的处理,那么P-5000是理想的选择。