二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9210301 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是为半导体制造而设计的先进等离子体工艺反应器。该反应堆提供了一系列功能，旨在满足现代半导体加工日益复杂的要求。该设备可用于各种工艺，包括蚀刻、沉积和植入。AMAT P-5000的特点是具有多区域抽吸式工艺室,旨在促进更高的吞吐量、更好的均匀性和提高产量。腔室被一系列紧密耦合的辅助过程模块包围，包括远程等离子体源、射频发生器、控制器、电子回旋共振箱和质量流控制器。APPLIED MATERIALS P 5000还具有集成的表面表征功能,使其能够测量膜厚度、电阻率和其他参数。AMAT P5000使用直驱真空系统维持低压环境。这使得腔室达到5 mTorr的基本压力，使得反应堆非常适合高压和低压等离子体过程。该装置还具有可调气体系统，可进行精确的气流控制，从而促进可重复的工艺结果。P-5000设计用于涉及各种蚀刻、等离子体增强化学气相沉积和离子束植入的高性能等离子体操作。它具有大的单片、中心开口的晶片，以及高达8英寸的小的多片晶片。大晶片可以加热到130 °C，小晶片可以加热到400°C。该机还具有高速晶片装卸能力和高速气体面板，可快速、精确地输送气体。APPLIED MATERIALS P5000设计用于多种应用,包括制造VLSI电路、半导体电源设备、MEMS设备和光学结构。该工具由强大的主机资产支持，可用于监视和控制设备参数，如压力、晶圆温度和时间。软件还包括3D建模功能,可用于可视化和优化过程结果。AMAT P 5000是一种功能丰富的先进反应堆，旨在满足半导体行业不断发展的需求。反应堆提供精确的温度、压力和气体控制，允许对过程环境进行详细的控制。P5000具有大晶圆容量、高速晶圆处理和高精度工艺能力，是各种先进等离子体工艺的理想解决方桉。