二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9217907 待售
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ID: 9217907
晶圆大小: 8"
优质的: 1996
CVD System, 8"
Process: SIO
Process chamber:
Chamber A & B: SIO
Chamber D: ETCH
Chamber version:
Chamber A & B: VAT ISO Valve
Chamber D: Standard
RF Generator type:
Chamber A & B: OEM-12B
Dry pump type:
Chamber A, B, D & L/L: EBARA 50x20 UERR 6M-J
Throttle valve type:
Chamber A, B & D: Non heated
VME System:
20 Slots
CPU: Synergy
Video: VGA
SEI
AI
AO
(4) DI/DO
(4) Steppers
Hard Disk Drive (HDD)
Floppy Disk Drive (FDD), 3.5"
Manometer type:
Chamber A & B: MKS 122B 11441
Chamber D: MKS 127
RF Matching box type:
Chamber A & B: 0010-09750D DR
Chamber D: 0010-09416
Turbo pump type:
Chamber D: LEYBOLD NT340M
System electronic type:
(2) TC Gauges
Buffer I/O
AI MUX
(2) OPTO
(4) Choppers
+12VPS
+15VPS
-15VPS
Storage elevator: 8 Slots
Cassette handler: Phase III, Top clamp
Robot: Phase III
Blade: Phase III
I/O Wafer sensor
Load lock purge
Heat exchanger:
AMAT0:
Connect to chamber A, B & D: Wall / LID
Main frame front type: Through-the-wall
Standard remote frame
TC Gauge type:
Chamber-A Rough: VCR
Chamber-B Rough: VCR
Chamber-D Rough: VCR
L/L Rough: VCR
L/L Chamber: VCR
Lamp module type:
Chamber A & B: STD 0010-09337
Mini-con
Magnet driver type:
Chamber A & B: P/N 0015-09091
Chamber D: P/N: 0015-70060
Signal tower
Gas panel type: (28) Gases
MFC Type (Main):
Chamber / Flow Gas / Flow size / Calibration gas / Maker / Model
B / SIH4 / 500 / N2 / STEC / SEC-4400
B / N2 / 5000 / N2 / STEC / SEC-4400
B / CF4 / 5000 / N2 / STEC / SEC-4400
B / N2O / 300 / N2 / STEC / SEC-4400
A / SIH4 / 500 / N2 / STEC / SEC-4400
A / N2 / 5000 / N2 / STEC / SEC-4400
A / CF4 / 5000 / N2 / STEC / SEC-4400
A / N2O / 300 / N2 / STEC / SEC-4400
D / O2/ 100 / N2 / STEC / SEC-4400
D / CF4 / 500 / N2 / STEC / SEC-4400
D / AR / 100 / N2 / STEC / SEC-4400
MFC Type (Remote):
Chamber / Flow Gas / Flow size / Calibration gas / Maker / Model
A / NF3 / 1000 / N2 / STEC / SEC-4400
A / N2O / 3000 / N2 / STEC / SEC-4400
B / NF3 / 1000 / N2 / STEC / SEC-4400
B / N2O / 3000 / N3 / STEC / SEC-4400
1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一种功能齐全的自动化加工工具,专为大容量半导体制造而设计。它经过精密设计,可实现卓越的性能,并提供一系列工艺配方和可配置的功能,以实现最大的通用性。AMAT P-5000提供了一个强大的加工室，可以处理大量具有更高吞吐量的基板。它有一个五区卡带式的负载锁和基板传输设备，以确保稳定的热循环和可重复的工艺条件。该系统还提供用于监测温度、压力和其他环境参数的数字和模拟负载锁定传感器。反应堆拥有增强的自动化平台，提供集成的DataBoss和Primus软件，以简化编程和设备管理。DataBoss Explorer软件提供高级光学和人体工程学功能,以快速配置配方和优化过程结果。Primus软件允许用户预设配方，并访问多个流程控制器，以优化配方进度和底物吞吐量。APPLIED MATERIALS P 5000配备Suite 200超高真空集群站，提供快速循环时间和出色的控制精度。该装置还配备了VacGenEx双枪单线沉积能力，提供卓越的沉积质量和吞吐量。AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000具有广泛的等离子体技术，包括电感耦合等离子体（ICP）、射频偏置（RF）、微波等离子体和远程等离子体源等离子体。所有这些等离子体技术都是为了提高工艺灵活性和产量而设计的。该机还具有精密温度控制的加热和冷却能力。APPLICED MATERIALS P5000可以使工艺气体排空,从而最大程度地节省维护成本,并支持最多8个反应堆以提高吞吐量。它与多种基材和基材类型兼容，包括结晶硅、GaAs和玻璃。AMAT P5000配备了集成的安全功能，其中包括移压监测、惯性传感器和防静电接地系统。它还具有高级报告和分析功能,使用户能够快速分析数据并确定可能影响设备产量的性能趋势。
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