二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9238731 待售
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ID: 9238731
晶圆大小: 8"
优质的: 1990
CVD System, 8"
Process: SION
Process chamber:
Chamber A, B & D: SION
Chamber version:
Chamber A, B & D: Standard
RF Generator type:
Chamber A, B & D: OEM-12B
Dry pump type:
Chamber A, B, D & L/L: EDWARDS QDP40 / QMB250
Throttle valve type:
Chamber A, B & D: Non heated
VME System:
20 Slots
CPU: Synergy
Video: VGA
SEI
(2) AI
(2) AO
(4) DI/DO
(4) Steppers
Hard Disk Drive (HDD)
Floppy Disk Drive (FDD), 3.5"
Process kit type:
Chamber A, B & D: SIN
Manometer type:
Chamber A: MKS 626A-21512
Chamber B & D: MKS 122B 11441S
RF Matching box type:
Chamber A, B & D: 0010-09750D DR
System electronic type:
(2) TC Gauges
Buffer I/O
AI MUX
(2) OPTO
(4) Choppers
+12VPS
+15VPS
-15VPS
Storage elevator: 8 Slots
Cassette handler: Phase III, Top clamp
Robot: Phase III
Blade: Phase III
I/O Wafer sensor
Load lock purge
Heat exchanger:
AMAT0:
Connect to chamber A, B & D: Wall / LID
Main frame front type: Through-the-wall
Standard remote frame
TC Gauge type:
Chamber-A Rough: VCR
Chamber-B Rough: VCR
Chamber-D Rough: VCR
L/L Rough: VCR
L/L Chamber: VCR
Lamp module type:
Chamber A, B & D: STD 0010-09337
Mini-con
Magnet driver type:
Chamber A, B & D: P/N 0015-09091
Gas panel type: (28) Gases
MFC Type (Main):
Chamber / Flow Gas / Flow size / Calibration gas / Maker / Model
B / SIH4 / 500 / N2 / STEC / SEC-4400
B / N2 / 5000 / N2 / STEC / SEC-4400
B / NF3 / 1000 / N2 / STEC / SEC-4400
B / N2O / 300 / N2 / STEC / SEC-4400
A / SIH4 / 500 / N2 / STEC / SEC-4400
A / N2 / 5000 / N2 / STEC / SEC-4400
A / NF3 / 1000 / N2 / STEC / SEC-4400
A / N2O / 300 / N2 / STEC / SEC-4400
D / SIH4 / 500 / N2 / STEC / SEC-4400
D / N2 / 5000 / N2 / STEC / SEC-4400
D / NF3 / 1000 / N2 / STEC / SEC-4400
D / N2O / 300 / N2 / STEC / SEC-4400
MFC Type (Remote):
Chamber / Flow Gas / Flow size / Calibration gas / Maker / Model
B / N2O / 1000 / N2 / STEC / SEC-4400
B / N2O / 3000 / N2 / STEC / SEC-4400
A / N2O / 1000 / N2 / STEC / SEC-4400
A / N2O / 3000 / N2 / STEC / SEC-4400
D / N2O / 1000 / N2 / STEC / SEC-4400
D / N2O / 3000 / N2 / STEC / SEC-4400
1990 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一个高性能的最终用户平台，用于生产先进的半导体材料，包括单和双介电堆栈、应变硅层、金属闸门和其他先进的器件层。它是半导体制造的"一体"平台,旨在为客户提供经济高效的复杂设备结构制造解决方桉。就其技术规格而言，AMAT P-5000是一种高温、等离子体为主的间歇反应堆。它配有先进的控制器板，能够实现离散调谐，并提供闭环处理能力，以确保沉积过程中最高质量的层层形成。此控制器包括一个增强的用户界面,为操作员提供必要的工具,以便快速准确地修改流程参数以满足特定的设备要求。APPLICED MATERIALS P 5000的核心是热丝源等离子体源，它允许高效、低成本的金属层沉积，厚度可达9200埃。热丝源能够产生高达1000 °C的温度，并且可以调整以产生单晶或多晶层。此外，它的原位特性允许瞬间微调和消除晶圆表面的成核位点。AMAT P5000还配备了一个与洁净室兼容的"空气幕"设备，以确保几乎无颗粒的生产环境。空气幕采用多级过滤系统，旨在减少污染和尽量减少空气中的微粒撞击。该单元还有助于减少加工室内的颗粒负荷，因为它可以防止颗粒进入工艺环境。AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000还配备了高级诊断机器，使操作员能够密切监测和检测沉积过程中的缺陷。此工具包括高级软件程序,允许用户快速轻松地设置和管理沉积过程。此外,P-5000还包括一些安全功能和创新的设计增强功能,如热关闭阀、内部密封件和压力传感器,以确保操作员的最高级别安全和协议。总之，P 5000是一种强大、可靠、高效的反应堆，专为满足现代半导体制造的需求而设计。其先进的控制器板和清洁室兼容的空气幕资产确保了一个几乎无颗粒的环境，具有准确、可重复的过程状态，可以被密切监控和快速、准确地调整。AMAT P 5000对于那些希望以经济高效的方式生产复杂的设备结构的人来说是一个极好的选择。
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