二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9243884 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一种先进的蚀刻反应器，旨在为半导体制造工艺提供超高速率蚀刻性能。AMAT P-5000在-25°C至500°C的温度下运行,具有先进、高效的等离子体源,可提高蚀刻速率和提高蚀刻均匀性。APPLICED MATERIALS P 5000采用双腔室设计，由上下腔室组成，可方便地重新配置，以适应不同的蚀刻工艺。上腔包含等离子体源，下腔容纳蚀刻气体和真空成分。模块化设计使AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000设备能够根据特定的工艺要求轻松定制。AMAT P 5000的先进等离子体源利用大功率射频发生器和坚固的磁控管在处理室内产生强烈蚀刻等离子体。等离子体是在高密度（最多3 Watts/cm2）下产生的，用于在不损害周围电路完整性的情况下，精确地蚀刻材料。P 5000还具有获得专利的双电离器设计,可提高工艺产量。双电离器系统使用两台独立的高频射频发生器，在整个处理室内创造出强大而均匀的离子能量分布，从而提高蚀刻均匀性。APPLIED MATERIALS P-5000设计用于运行多种晶圆尺寸和基材,包括低热预算设备。为了更好的安全和方便，该机组采用了集成的温度维护机、自动射频功率调节以及可靠的高效干泵。为了获得最大的灵活性,APPLIED MATERIALS P5000提供了多种附件,如射频匹配网络、排气泵、电缆套件和控制套件。该工具还与多个监控系统兼容，包括AMAT Pro E-200控制器。AMAT/APPLICED MATERIALS P 5000是一种先进的蚀刻反应器,可帮助半导体制造商在超高速加工速度下精确地蚀刻材料。该资产利用双腔室设计和高效磁控管在腔室内部产生强大、均匀的等离子体。P5000与多个晶片和基板尺寸兼容,并通过广泛的附件和控制系统为用户提供最大的灵活性。