二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9252545 待售
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ID: 9252545
晶圆大小: 6"
优质的: 1994
TEOS System, 6"
With heat exchanger
(3) CVD Chambers
Etch back chamber
(2) DxL Chambers
(2) Etch Chambers
8-Slot storage
Hot box
1994 vintage.
AMAT Inc.AMAT/APPLIED MATERIALS P5000反应器是一种化学气相沉积（CVD）工具，用于沉积来自半导体工业中各种挥发性前体的薄膜。设计以水平配置、单晶片为基础的加工室为基础，提供足够的环境温度和压力以保持均匀的薄膜厚度，同时保持整个工艺控制和灵活性。该设备采用热壁定向流动室，其加热范围为150-600°C。内部压力保持在较低水平,从而可以有效地控制过程。这种降低的压力也有助于尽量减少受控沉积环境中的污染。腔室内填充有一种载流子气体，是用来运送挥发性前体，例如硅烷和氮化物到底物表面的。为确保晶片表面薄膜均匀生长，腔室配有自动分配和溷合系统，控制反应物的分配和整体流量。AMAT P-5000单元包括各种流程监控工具和诊断。一种多通道机器，允许多参数的原位读取，如沉积速率和薄膜厚度。集成光发射光谱（OES）工具可以检测异地污染，允许快速反应和优化沉积过程。此外，反应堆可以与后CVD蚀刻资产结合使用，以便能够蚀刻复杂的结构，例如在先进的CMOS和MEMS应用中使用的结构，同时保持整个过程在热壁室的安全和兼容性。综上所述,APPLIED MATERIALS P 5000实施例是最完整和最先进的CVD系统之一,能够更好地控制沉积参数、过程监控和诊断。该模型具有优异的膜均匀性、质量和与金属有机化学气相沉积（MOCVD）和低压化学气相沉积（LPCVD）等复杂沉积工艺的兼容性。
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