二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9255615 待售

ID: 9255615
晶圆大小: 6"
System, 6" (2) CVD Chambers Etch chamber.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Ion Implanter是一种高电流植入器,能够将广泛的掺杂物种高通量植入大型基质中。它采用4-Megawatt放大器设计,能够产生1000 Hz至10 kHz的植入枪频率,剂量均匀度+/− 0.5%。这使得生产高度均匀的掺杂剂不会产生空间变化。AMAT P-5000在半导体过程中具有特殊的植入能力,包括源/漏、栅极和硅化物。其改进的光束管理提供了离子束的类似基板的精度,从而使溅射最小,改进了过程控制和更高的吞吐量。APPLICED MATERIALS P 5000利用一把足够大的枪注入最大8英寸宽的半透明基板。它有一个400万伏的放大器,可以用来提供高达2000安培的电力枪。这种将中和离子束与巨大的光束电流结合起来,最大程度地减少了光束的大小、边缘效应和均匀性。集成的等离子体源还优化了包括SiGe、III-V化合物等在内的新材料的植入。AMAT P5000ion植入器是半导体和MEMS处理最有效的工具之一。这种植入器设计用于高通量生产环境,在这种环境中,均匀性和准确性至关重要。它具有发射光束的能力,可以很容易地针对各种各样的应用进行调整。其集成的等离子体源和4-Megawatt放大器使其能够均匀地影响各种掺杂物质的材料。此外,其高通量能力,提高了能量灵活性,改进了光束管理和光束尺寸控制,使其成为芯片制造的理想工具。
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