二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9255617 待售

ID: 9255617
System, 6" CVD Chamber Etch chamber.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000反应堆是一种高输出工艺工具,用于从预定尺寸的半导体晶圆创建集成电路。该反应堆是该公司基板解决方桉(ASL)系列产品的一部分,为金属、互连、介电和半导体薄膜等材料的沉积提供了经济高效的高性能设备。AMAT P-5000反应堆是AMAT最先进的工艺工具.其主要的製造商目标是半导体产业,需要能提供高性能、吞吐量和准确性的工具。与其他APPLIED MATERIALS工艺相比,APPLIED MATERIALS P 5000反应堆的设计具有更高的吞吐量和提高的生产率。反应堆可以支撑广泛的过程时间、腔室压力和过程温度。其最大工艺速率高达2 Mbps,集成压力控制系统,以及先进的热管理单元。独特的可移动腔室设计便于进入加工腔室,便于维护和清洁。AMAT P5000反应器先进的工艺技术包括提高膜的均匀性,良好的基板粘附,降低拉脱值和降低应力水平。它内置的计量机可以对沉积参数以及工艺性能进行现场监测。这有助于确保流程按预期运行并保持产品质量。该装置支持多种技术和工艺,包括ALD、CVD、PECVD、大气压力CVD、快速热处理和物理气相沉积。为了保证最优性能和工艺稳定性,反应堆可以安装AMAT/APPLIED Materials Sub@@-Ambient Processing和Sub@@-Ambient Temperature Control。AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000反应堆的设计满足了半导体工业的严格要求。它配备了不间断的刀具电源和负载端口,可在最短的停机时间内快速生产设备。腔室也可以冷却至低于-140°C的温度,以获得额外的工艺稳定性。总体而言,AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000反应堆是一种先进、先进的工艺工具。它提供了一个可靠、准确和高输出的解决方桉,用于从预定尺寸的半导体晶圆创建集成电路,使其成为任何半导体制造设施的必要设备。
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