二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9255619 待售

ID: 9255619
System (3) SACVD Systems with PLIS TEOS.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000反应堆是一种高度先进的原位深反应性离子蚀刻(DRIE)工具,用于在多种材料中生产非常小的复杂形状的孔和微观结构。AMAT P-5000中的DRIE工艺效率很高,在大多数材料和工艺中可达到100 μ m/min以上的蚀刻速率。此外,它还能够蚀刻各种真空破损最小的非导电材料,允许广泛的制造选择和应用。APPLIED MATERIALS P 5000具有填充沟槽的环形放电源,是对传统磁控管源的改进。这导致更大的均匀性和更均匀的等离子体所需的蚀刻过程。此外,APPLIED MATERIALS P-5000是一种多室设备,带有石英加工室和一个独立室的支撑室。这种腔室功能的分离允许更有效的制造工艺,因为它允许更复杂的工艺和更精确的蚀刻进行,而不占用任何加工或支撑腔室空间。AMAT/APPLICED MATERIALS P 5000採用多层易感器技术,确保对蚀刻和基板环境的实时精确控制,同时消除热处理对基板的伤害。此外,全金属基板紧固系统允许精确、高效地定位基板,从而提高产量和更好的蚀刻分辨率。此外,P-5000的闭环冷却/加热装置可确保整个蚀刻过程中的温度一致性。P5000能够蚀刻各种材料,从金属到电介质,包括III-V,并且是完全自动化的;使P 5000成为自动化制造环境中必不可少的工具。此外,AMAT P 5000的高级控制方桉提供了精确的蚀刻速率控制,从而可以轻松修改蚀刻速率,而无需重新定位感受器以更改蚀刻设置。总体而言,APPLIED MATERIALS P5000是一种多合一、高度先进的深部反应性离子蚀刻反应器。其先进的环形放电源、多级敏感器技术、多室设计使得AMAT/APPLICED MATERIALS P-5000金属、电介质、III-V等多种材料的理想蚀刻机。其精确的蚀刻速率控制、高效的基板定位和温度一致性,以及自动化操作,使AMAT P 5000成为任何自动化制造环境中必不可少的工具。
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