二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9257152 待售

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ID: 9257152
晶圆大小: 8"
优质的: 1996
CVD System, 8" Chamber type: Ch-A: Delta lamp CVD, SIN Ch-C: Orient Ch-D: Lamp CVD, SIO2 RF Gen type: Ch-A: ADTEC AX-1000AM II, 13.56 MHz VME Type: (20) Slots Sto. Elevator type: 29 Storage Cassette clamp type: Top clamp H/E: AMAT-0 Robot type: Phase I/O Sensor Torans type: Δ-Y 81 kVA Gas panel type: 28 Line type Remote AC box: AC Box, non-frame Missing parts: Video board SBC Board Floppy Disk Drive (FDD) 1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Reactor是AMAT的旗舰产品,AMAT是半导体行业先进工艺设备和服务的全球领先供应商。为提高先进集成电路制造工艺的生产率而开发的AMAT P-5000反应器是现有最先进的离子植入沉积设备。APPLIED MATERIALS P 5000提供70至150毫米晶片的全晶片覆盖,使用户可以生产高效、全范围的错综复杂、纤薄的功能性膜层。此外,该系统旨在提供对惰性或反应性气体流动、剂量、能量和停留时间的高度精确控制,使其成为快速生产高质量层如无定形或结晶氧化物、氮化物和其他化合物的理想选择。APPLICED MATERIALS P5000还具有独特的低阻尼器单元,有助于最小化粒子并优化层均匀性。这与其卓越的真空能力相结合,使P-5000能够以一致的质量和可靠性处理大量的晶片。而且机器配备了先进的电离源,使用户能够选择适合自己应用的最佳源。在安全方面,AMAT/APPLICED MATERIALS P-5000具有安全和冗余的操作安全功能,具有高度的保护,包括一个五级安全工具,有助于减少操作过程中发生错误和违反安全的风险。此外,P5000的设计符合半导体行业的清洁空间和安全规定,提供了一层宝贵的保证。AMAT P 5000是一个理想的工具,如果你的过程需要精确控制各种材料的沉积。此外,植入源的选择和对不同植入源特性的了解,确保了最高层质量的实现。最后,AMAT/APPLICED MATERIALS P 5000具备了资产强大的安全保障规定和令人印象深刻的全面功能集,是最先进和创新的制造工艺的重要组成部分。
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