二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9266344 待售

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ID: 9266344
晶圆大小: 8"
优质的: 1999
System, 8" System skins: Side skins No helium cooling system RF Cable position interlock (Match box): OEM-12B RF-On indicator Mounting: Lamp mounted on remote AC box Minicontroller Heat exchangers: AMAT-0 No heat exchanger skins No chiller No H2O flow switch No EMO guard ring Mainframe: Loadlock / Cassette options: Tilt-out cassette loader Elevator type: 15-Slots No load lock lid lifter Robot Wafer position sensor Umbilicals: Remote signal cable lengths: 50 ft RF Generator coax cable length: 50 ft Smart pump interface cable length: 50 ft Leak check ports Minicontroller: 10 ft No status light tower Signal status indicator: Mainframe No manual Missing parts: SEI Board VGA Board Stepper control board (3) DI/O Boards Hard Disk Drive (HDD) Chamber B: Baratron gauge (10torr) Monitor Main to AC box power cable Frequency: 50 Hz 1999 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一种用于高密度等离子体蚀刻和沉积的反应器。它旨在提供精确的高密度等离子体蚀刻、高通量和均匀性的晶圆处理,并具有非常低的功耗。它具有高压、高真空室,具有更高效的高密度等离子体转移和更好的均匀性,因为气体流量增加,电子云密度更好。它能够在广泛的压力和温度范围内产生等离子体,从而能够精确和控制蚀刻过程,从而提高表面质量和提高产量。AMAT P-5000反应堆由一系列组件组成,其中包括自动气体溷合设备、感应耦合等离子体源、离子源、离子源和高压发生器。自动气体溷合系统允许对压力、温度和浓度等等离子体参数进行精确控制。感应耦合等离子体源提供了用于蚀刻的高密度等离子体,而离子源则用于控制等离子体的能量。此外,高压发电机用于提供精确的能级,以获得一致的结果。在其架构上,APPLIED MATERIALS P 5000反应堆具有闭环气体控制单元,旨在最大限度地提高性能和降低污染水平。它具有多个独立的质量流控制器,温度稳定性,传感器反馈和闭环气体控制,以确保准确的气体输送和在广泛的基板尺寸均匀蚀刻。P5000反应堆还采用多层安全壳技术,如负压安全壳和真空密封工具,以尽量减少污染。此外,AMAT P 5000反应堆包括一个独特的材料处理资产,与精密蚀刻模型协同工作,以确保精确和可重复的结果。总体而言,P 5000是一种高性能、经济高效的反应堆,用于精确、精确的蚀刻工艺,具有极好的均匀性和屈服效果。APPLIED MATERIALS P-5000具有先进的功能和自动化的控制系统,是各种高级高密度等离子体蚀刻应用的理想解决方桉。
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