二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9267090 待售
看起来这件物品已经卖了。检查下面的类似产品或与我们联系,我们经验丰富的团队将为您找到它。
单击可缩放
已售出
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一种下一代、功能齐全的等离子体辅助化学气相沉积(PECVD)工艺反应器,旨在实现高级半导体器件几何形状和材料的高性能蚀刻、沉积和退火工艺。AMAT P-5000使用最先进的双源等离子体TM技术,该技术可创建紧密耦合的双频源,从而能够精确控制等离子体参数,从而最大程度地提高工艺灵活性和效率。APPLICED MATERIALS P 5000结合了最新的等离子体辅助反应室技术,提供了改进的速度、均匀性和对工艺材料的控制。P-5000设备包括自动晶片处理能力、现场端点检测系统和气体溷合能力,允许特定于组件的PECVD过程。P5000提供高性能、经济高效且气体消耗低的处理,使客户能够降低运营成本,同时仍能达到理想的沉积速率。它具有一个集成的、严格表征的等离子体源,能够同时使用氯化物和碳氟化合物。具有非接触卡盘的集成晶片手柄提供了反应物和晶片基板的均匀分散,调节了p型工艺。用户友好的触摸屏界面为单元操作提供了清晰的指导,包括配置过程参数和最优控制AMAT P5000沉积过程。AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000反应堆设计灵活运行可靠,具有真空和泄漏防护、内压破碎机等先进的安全特性,以及保护电流过大的射频发生器。它还为各种低介电常数(low-k)材料提供高精度的沉积均匀性,以及应变SiGe的回流。该工具结合了自动端点检测,以减少排便并提供可靠的结果,而气体溷合资产使客户能够使用各种工艺气体来实现最佳的原位PECVD工艺。APPLICED MATERIALS P5000是先进半导体应用的强大工具,提供符合当今电子产品严格要求的高性能沉积,具有适应未来需求的灵活性和可靠性。
还没有评论