二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9267680 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一种先进的化学气相沉积（CVD）反应器，设计用于处理半导体和电子工业中的各种材料。它是一个单晶片，线性驱动，感应耦合等离子体反应器，有一个大的腔室和一个宽的过程窗口。AMAT P-5000采用原位过程监控、获得专利的钻探验证设备和先进的气体输送系统设计,可实现精确、实时、响应时间快的过程控制。这使得可重复和可靠的处理具有出色的均匀性和高吞吐量,以及严格的过程控制。APPLIED MATERIALS P 5000的腔室尺寸为375mm，最多可容纳300 mm晶圆。优化处理高长宽比和3 D结构。专利的线性"X-Drive"使P 5000提供0.1 µm等离子体控制和全晶片摆动，提高晶片表面的均匀性。它配备了先进的风扇控制单元，以优化沉积均匀性。除了高性能外，P-5000反应堆还设计了长寿命周期，并针对低拥有成本进行了优化。它由低振动部件、高绝缘和低粒子计数材料牢固地构成。AMAT P 5000还配备了优化的工程系统，便于维护，避免了昂贵的服务合同的需要。APPLIED MATERIALS P-5000具有完全集成的过程控制器和诊断机器,可与生产线完全集成,以实现实时过程监控和产品可追踪性。它可以与几乎所有类型的行业标准配方和数据库系统通信,包括Factory Talk Production Centeral、Solectron的WATRM和Applied的专有CMP Lite。它还提供了多阶段生产工艺优化，以提高产量和周期时间。AMAT P5000支持多种材料，包括氧化物、氮化物、金属、类似金刚石的碳和有机膜。反应堆特别适合于先进的互连、高k内存和逻辑、MEMS和传感器、III-V光电器件和OLED显示器。APPLICED MATERIALS P5000还为3D应用程序和内存设备提供了出色的步骤覆盖范围和较长的沉积寿命。P5000是一种先进的CVD工具,非常适合半导体、电子和工业过程。它具有坚固的线性驱动、全晶片摆动和精确的过程控制等突破性性能。该反应堆设计精密、可重复沉积，均匀性好，通量高，使用寿命长。